下一代EUV芯片遇到障礙 - 彭博社

ASML的極紫外光刻機。

來源：ASML隨着芯片製造技術的進步遇到物理極限，威脅到製造成本的上升，行業領導者對一家名為ASML的荷蘭公司寄予厚望。在過去十年中，ASML一直承諾其新技術將使晶體管的製造能夠保持我們習慣的速度，繼續變得更纖薄、更強大。2012年，英特爾、三星和台積電採取了前所未有的步驟，投資約16億美元於ASML以加速其研究，並支付近50億美元獲得該公司23%的股份。

彭博社商業週刊埃隆·馬斯克如何接受“特朗普交易”馬斯克在煽動性的特朗普集會上慶祝勝利沒有隱士。尋求庇護者佔據拜登承諾關閉的監獄美國正在用尋求庇護者填滿臭名昭著的前監獄ASML預計今年將交付多達七台新機器，以便芯片製造商可以開始測試被稱為極紫外光刻（EUV）的技術。首席執行官彼得·温寧克表示，他的大多數客户預計將在2019年之前整合EUV，他正在為明年內的訂單做準備。“行業需要EUV，”他説。

然而，到目前為止，EUV的技術證明效率低於預期，可能無法提供投資者所希望的回報。投資銀行Stifel Nicolaus的分析師帕特里克·霍表示，即使是那些會使智能手機和PC部件成本更高的替代方案，現在看起來也更具吸引力。“行業幾年前就押注EUV將是下一代技術，”他説。“這非常令人失望。”台積電拒絕對此報道發表評論。三星沒有回應評論請求。

光刻是利用集中光線將線條燒錄到沉積在硅上的材料層中的過程，這是製造晶體管的關鍵步驟——也是工程師在接近原子級別工作時的自然瓶頸。如今，公司們正試圖蝕刻比用於此工作的光的波長更小的線條，因此推動了極紫外光束的使用，這種光束具有更短的波長。“沒有EUV……你的經濟效益會更差，”太平洋頂峯證券的分析師韋斯頓·特維格説。“如果EUV還沒有準備好，事情會變得更加困難。”

問題在於，波長更短的光束需要大量能量，而ASML的機器由於EUV會弄髒用於該過程的鏡子，因此需要大量的停機時間。根據其公開聲明，ASML的目標是將EUV機器所需的停機時間從目前的25%到30%減少到年末的20%。當價格標籤（即使沒有研發資金）達到八位數時，這可不是你想聽到的消息，這使其成為工廠中最昂貴的設備。

Stifel Nicolaus的霍説，ASML作為歐洲少數幾家科技強國之一，必須證明它能遵守其最新的時間表。2007年，前首席執行官埃裏克·梅里斯曾表示，EUV機器將在2012年對芯片製造商具有成本效益。太平洋頂峯的特維格説：“這可能是世界上最先進的科學研究項目。然而，該項目仍然落後。”

在2月份，台積電聯合首席執行官劉德音告訴投資者，他的公司有備份計劃。那個月，英特爾光刻戰略採購總監賈尼斯·戈爾達在一篇 公司博客文章中寫道，關於EUV的問題是何時，而不是是否。但她補充説，“EUV光刻生產的道路是漫長的。”芯片製造商往往在兩到三年的週期中整合製造進步，因此如果EUV今年還沒有準備好，ASML下一個重大機會將更接近2020年。

目前，獲得更小線條的最明顯方法是在每個芯片上使用當前的光刻技術更多次。大型芯片製造商對此一直不願意，因為這需要更長的時間，而在一個五年內就會過時的100億美元工廠中，這始終是一個重要考慮。然而，半導體顧問公司總裁羅伯特·梅爾表示，極紫外光（EUV）開發的複雜性應該是更大的擔憂。“有很多事情可能會出錯，”他説。“我們可能永遠看不到在EUV上投入的投資和時間的回報。”

底線： 英特爾、三星和台積電可能開始看到他們在ASML上投資16億美元的回報跡象。