三星華為達成和解 化解持續2年的專利侵權糾紛

據美國科技網站CNET26日消息，當地時間星期二，曾因專利糾紛打了兩年官司的三星、華為達成和解，三星和華為要求一家法院中止處理相關訴訟的程序。

美媒CNET報道截圖

2016 年，這兩家公司相互起訴對方違反協議、侵犯自己的專利。根據計劃，該案將於今年9月開庭審理，屆時陪審團將聽取三星有關華為違背FRAND（公平、合理和非歧視）原則的主張。

雙方向法院提交的終止訴訟程序的文本截圖

2016年華為起訴三星非法使用了其技術，其中主要涉及4G通信技術、智能手機操作功能相關軟件。華為訴稱，包括Galaxy S7/S7edge在內的近20款三星終端產品，涉嫌侵權其2010年申請的“一種可應用於終端組件顯示的處理方法和用户設備”專利。

2017年，泉州中院裁定三星因侵犯專利賠償華為8000萬元經濟損失。

今天向法院提交的聯合動議證實華為和三星本週達成了庭外和解協議，至少和解在美國的訴訟。聯合文件稱，“雙方達成了和解協議，根據協議，它們將在未來數週採取措施，完成和解訴訟的工作，華為將在30天內提交撤訴文件。”

目前尚不清楚華為和三星和解協議內容。（文/一鳴）