日媒：三星半導體戰略籠罩“日本出口管制”陰影

*【環球網科技綜合報道 記者 王歡】*據《日本經濟新聞》7月12日報道，受日本政府對韓國啓動半導體材料出口管制影響，在半導體行業有觀點認為，韓國三星電子的“非存儲器”戰略將受到影響。其原因是，日本限制出口的3類材料之一的“光刻膠(Resist)”可能對三星投產最尖端裝置產生影響。這關乎三星能否在今後的開發競爭中處於優勢地位。

行業團體“韓國半導體產業協會”常務安基鉉就日本加強出口管制的感光材料指出，“從光的波長來看，被稱為EUV的最尖端曝光裝置用光刻膠成為限制出口的對象”。在此基礎上表示“可能對生產大規模集成電路(LSI)的三星使用EUV的生產線產生影響”。

1台EUV售價約200億日元，操作也很複雜，但是能夠使更高性能的半導體開發成為可能。目前，能夠在量產線中使用EUV的被認為只有三星和全球最大的半導體代工企業台灣積體電路製造。

圍繞大規模集成電路，三星在作為智能手機大腦的半導體代工生產等領域與台積電競爭，在圖像傳感器領域與索尼競爭。全球市場份額在2成左右，均位居第2位。三星的主營業務是保存手機等數據的存儲器業務，大規模集成電路在半導體業務營業利潤中所佔比例還不到5%。

但是在存儲器市場，去年秋季之前拉動市場增長的美國IT巨頭面向服務器的投資暫歇，今年市場行情出現惡化。三星2019年4~6月的營業利潤(速報值)較上年同期大幅減少56%。

受市場行情發生變化影響，三星4月份宣佈，將在2030年之前投入133萬億韓元用於設備投資和研究開發。創始人家族出身的副會長李在鎔提出，繼存儲器之後“在系統半導體市場也力爭成為世界第一”的目標。

但是，在最尖端工序中使用的感光材料成為限制對象，計劃剛提出就遇挫。韓國的半導體業內人士表示，“三星被戳到痛處”。三星原本計劃2019年下半年開始增產使用EUV的大規模集成電路，但現在可能推遲這一計劃。

一方面，不少觀點認為，大規模減產或停產的“可能性較低”(韓國的分析師)，因為有聲音猜測三星請求供應感光材料的日本信越化學工業和JSR提供合作，在加強出口管制的4日之前一定程度增加了庫存。