中國需要什麼樣的外國科技人才居留_風聞

中國需要外國科技人才居留工作，但中國需要的人才和美國不完全一樣，中國有大量人才輸出到美國，中國本身也能大量培養科學家和工程師。

辦好中國自己的高校、企業，把中國人才從國外吸引回來，應該是主要任務；吸引外國科技人才，應該是輔助和補充的任務。主次不可顛倒。

谷歌前CEO Eric Schmidt最近説，中國正在競爭成為世界領先的創新者，而美國這樣下去是不會獲勝的。他也是美國國家安全委員會人工智能和國防創新委員會主席。

他説，美國人有車庫創業的冒險精神，有獨一無二的大學，這很好，但不是故事的全部，美國人太相信私營部門，但和中國的技術競爭，美國需要政府和產業之間建立更好的合作。其中一點就是美國應該大力培養有前途的科學家和工程師，吸引更多的全球技術專家來美國。

吸引全球科技人才，美國本來就做得不錯，但本土人才的培養，美國的自我造血能力就有限了，至少遠遠跟不上需求，這有客觀條件的原因。

美國是移民大國，美國的國情並不適用中國，美國科技人才的情況如下（數據來自CSET去年的一個報告）：

• 在美國就業的擁有研究生學位的計算機科學家中，51%的碩士和59%的博士出生在國外。工程師中，35%的碩士和55%的博士出生在國外。

• 硅谷大約65%的計算機和數學專業人士出生在國外。

• 在美國大學的計算機科學和工程領域，超過50%的教學和研究人員是在國外出生的。(其中大約一半已經加入了美國國籍。)

• 在美國計算機科學、信息科學和計算機工程領域，2017年博士學位留學生的比例為62%。在碩士階段，這個比例大約是70%。

• 印度和中國是美國國際員工和學生最大的來源國。例如，幾乎一半的硅谷專業人士來自這兩個國家(26%來自印度，14%來自中國)，AI相關領域的大多數國際學生也來自中印兩國。

• 美國一直能夠留住很多在大學裏培養的外國人才。例如，在攻讀計算機科學和工程博士學位期間持臨時簽證的學生中，約有75%在完成博士學位後在美國停留至少10年。

• 21世紀初，中國或印度工程師領導着硅谷25%的高科技企業。2011年，美國87%的頂尖大學的半導體設備製造專利和84%的信息技術專利至少有一名外國出生的發明者。

• 外國出生的人工智能人才並沒有將美國學生或工人擠出勞動力市場。美國私營部門的高管們在採訪中指出，“對科技人才的需求是如此之大，以至於當他們同時找到一位合格的美國申請人和另一位外國公民時，他們會為這兩個人都提供工作。”

• 前谷歌頂級機器學習科學家之一的Ian Goodfellow説：“在過去幾年裏，簽證限制一直是我們集體研究生產力的最大瓶頸之一。”這些問題促使包括Facebook、Microsoft、谷歌、亞馬遜和intel在內的一些大公司在其他國家設立研究中心，以吸引當地人才。

總結一下：

對科技人才的需求，中美都很大。但是，要注意：

第一，中國大量專業人才留在美國，中國沒有理由不優先吸引中國人。

第二，不是隻有外國人留在中國這種方式，中國企業在國際化的過程中也走了出去，美國大公司在國外設立研發中心，中國的頂級企業如華為也是這麼做的。

第三，上述數據證明，在STEM領域，通過中國本土的教育體系和國外的研究生教育，已經培養出了大量的中國科技人才，他們中不少已經回國，仍有相當數量的在美國找工作。這是STEM領域中國造血能力強大的體現，除了芯片、發動機等少數領域，我們沒有那麼怕人才儲備不足，更重要的問題是在給人才更好的成長環境和空間。

當然，完善好外國人居留中國的相關法律政策，非常重要。

我2018年的時候採訪了中微半導體董事長尹志堯，他60歲回國創業，14年後才辦好中國綠卡。這裏摘錄採訪的原文：

問：聽説你的中國綠卡一直沒有拿到，是怎麼回事？

在中國辦綠卡有層層的限制和手續。我84年到硅谷英特爾工作後，只是一個外籍工程師，辦綠卡三個月就辦好了。但我回國後，作為一個公司的董事長和總裁，我花了13年還沒有辦好，當然，最近在辦綠卡上放寬了很多，才剛剛辦好。但公司回來工作的十幾年中，也只有十分之一的人辦好了綠卡。其中很重要的一個證明是無犯罪記錄證明。要辦這個證明，要到美國的公安局去，然後拿到加州州政府去，要走兩個辦公室簽字，然後把三個簽字簽好，要送到舊金山領事館，還要等一個星期到兩個星期。所以很多人工作很忙，沒有那麼多時間在美國等着拿一個無犯罪記錄。

在人才的吸引方面，還有很多所謂和國人同等待遇，和當地居民同等待遇的政策問題需要解決。比如房屋限購問題，外國人購買股票問題，孩子上學問題，一系列保險問題，甚至坐火車領票，到政府機關的通行等問題。要讓被吸引歸國工作的人員感到和國民同等待遇還需要一系列的努力。

（中微半導體是國家集成電路產業基金（大基金）成立後投資的第一家公司，也是美國《確保美國在半導體產業的長期領導地位》報告中唯一提到名字的中國公司。2015年，因中微半導體開發的國產等離子體刻蝕設備達到世界先進水平，美國商務部解除了這類設備持續幾十年的出口管制。）