潑個冷水,國產光刻機最大的問題是良品率低_風聞
这个真没有-你尝尝有没有毒?2020-05-18 10:48
潑個冷水,國產光刻機最大的問題是良品率低,國產的2台SSA600/20型光刻機,到現在都沒有解決良品率問題,而且估計的2—3年。。。28nm的可想而知。。。目前先使用尼康的90nm先跑起來,驗證華為設計能力。。。年底上國產28nm,解決良品率問題。。。
另外EDA其實問題不大,華為很強大,7nm的EDA已經開始驗證。。。這個肯定在硬件之前搞定。。。
當前的問題在於如何保持華為的芯片設計能力不退後/我早説了,必須建立一條小型工廠,完全去美化,用於華為芯片流片和驗證。。。至於華為的資金問題,建議設立專項基金,以10年為期,補助華為尤其是科研人員的待遇和相應的研發經費。。。估計1500億差不多一年。
沒想給我把評論換成帖子了,那就多説幾句。。。
國產光刻機90nm現在產了2台,裏面國產化只到60%大概,一味的求純國產目前是行不通的,必須團結日歐,尤其是日本,日本的半導體生產設備這些年一直被美國打壓,錢賺的越來越少,科研投入也少,所以走下坡路在,但還是有深厚底子的。
要實現去美化,而不要求純國產,反擊美國另一面的目的,就是團結日歐,以鬥爭求團結。。。
半導體生產設備的突破,需要海量資金,長期投入,10年為期。
而且不單單是生產設備,光刻膠這些生產原料也要投入。好在除了美國,還有日本。目前要防止美國禁止日本向中國出口半導體生產設備,一味去求日本頂住壓力是不行的,還是前面那句話,以鬥爭求團結。
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