潑個冷水，國產光刻機最大的問題是良品率低_風聞

潑個冷水，國產光刻機最大的問題是良品率低，國產的2台SSA600/20型光刻機，到現在都沒有解決良品率問題，而且估計的2—3年。。。28nm的可想而知。。。目前先使用尼康的90nm先跑起來，驗證華為設計能力。。。年底上國產28nm，解決良品率問題。。。

另外EDA其實問題不大，華為很強大，7nm的EDA已經開始驗證。。。這個肯定在硬件之前搞定。。。

當前的問題在於如何保持華為的芯片設計能力不退後/我早説了，必須建立一條小型工廠，完全去美化，用於華為芯片流片和驗證。。。至於華為的資金問題，建議設立專項基金，以10年為期，補助華為尤其是科研人員的待遇和相應的研發經費。。。估計1500億差不多一年。

沒想給我把評論換成帖子了，那就多説幾句。。。

國產光刻機90nm現在產了2台，裏面國產化只到60%大概，一味的求純國產目前是行不通的，必須團結日歐，尤其是日本，日本的半導體生產設備這些年一直被美國打壓，錢賺的越來越少，科研投入也少，所以走下坡路在，但還是有深厚底子的。

要實現去美化，而不要求純國產，反擊美國另一面的目的，就是團結日歐，以鬥爭求團結。。。

半導體生產設備的突破，需要海量資金，長期投入，10年為期。

而且不單單是生產設備，光刻膠這些生產原料也要投入。好在除了美國，還有日本。目前要防止美國禁止日本向中國出口半導體生產設備，一味去求日本頂住壓力是不行的，還是前面那句話，以鬥爭求團結。

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