芯片製造科技：用水刻機代替光刻機是否可行？_風聞

原創來自：方法研究

光刻機是目前國產芯片製造的最大障礙

大家都知道高端光刻機僅有荷蘭ASML公司，別無分號。而且因為美國的壓力，ASML無法賣光刻機給中國大陸，近期隨着美國對華為斷供政策，受制於美方壓力，制裁華為緩衝期一過，各原材料及芯片供應廠商也只能斷供華為，華為空有高端CPU設計圖紙，卻無法製造出CPU芯片，目前最大的障礙是芯片製造的光刻環節。

光刻機的精度已經快接近極限

光的波長是有範圍的。加上半導體的量子極限是3nm，再小了對做半導體沒有意義了。目前ASML的光刻機可以實現7nm量產。純國產光刻機只有28nm的精度。

專業人士認為我們在光刻領域落後ASML至少10年，有沒有辦法繞開光刻技術？個人覺得水刻理論上也是行得通的，條件也是成熟的。

水刻機做芯片求教

條件：

（1）水分子直徑大約0.4nm。

（2）反滲透膜已經是很成熟的產品，此膜可以做到與水分子相近的孔徑。

設想：

（1）將CPU集成電路圖，做成膠片，但這個膠片不是透光的，而是透水的，有線路部分是透水的，只有水分子可以穿透它並附於晶圓表面，水分子數量要注意控制。通過壓力的方式直接使水分子穿透反滲透膜，附於晶圓上。

（2）電子板上有特殊膠，與光刻膠作用相似，但只與水發生反應。沒有水分子的地方，不會反應。甚至可以直接將膠通過反滲透膜塗抹在晶圓上。

請教專家，這樣是不是可靠？

我不是這方面專家，只是一個熱心的中國人，如果按原理分析，可以做出1nm左右的電路了，是否可行，歡迎大家討論。