ASML參展進博會：沒帶EUV_風聞

11月5日，作為全球芯片光刻技術的佼佼者，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥以“光刻未來，攜手同行”為主題，亮相第三屆進博會高端裝備展區，呈現整體光刻解決方案。

眾所周知，光刻機是芯片製造中最重要的設備之一，它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅片上。

目前，製造7nm工藝以下芯片均需使用EUV光刻機（極紫外光刻），而阿斯麥是全球唯一能生產EUV光刻機的廠商。

不過，由於阿斯麥目前仍不能向中國企業出口EUV光刻機，所以此次在進博會上展示的是其DUV光刻機（深紫外光刻），該產品可生產7nm及以上製程芯片。

11月2日，阿斯麥全球副總裁、中國區總裁沈波在接受採訪時表示，該公司在中國大陸地區大大小小裝機已經有700台，很多芯片製造企業都是其多年的合作伙伴。2020年第二、第三季度，該公司發往中國大陸地區的光刻機台數超過全球總枱數的20%。

“我們參加進博會是為了表達我們的立場，對開放合作、攜手創新的支持。”沈波認為，芯片是目前全球化分工最細緻的行業，開放協作是最重要的理念，它能以最高的效率推動技術進步。

沈波

10月中旬，阿斯麥CEO Peter Wennink 在發佈第三季財報時透露，根據當前法規，阿斯麥無需獲得美國出口許可證便可以繼續從荷蘭向中國客户出貨DUV光刻系統；而對於直接從美國發貨系統或零件到受法規影響的客户，該公司需獲得許可證。

在被分析師問到美國禁令下其他半導體設備對中國晶圓代工的限制時，Peter Wennink 指出，有很多半導體設備都有替代方案。對於中國公司而言，要找到光刻機的替代很困難，這是晶圓代工廠中最關鍵的工具，但目前的訂購規則允許該公司出貨光刻機。

而在9月份，沈波在中國集成電路製造年會上表示，ASML在中國大陸12個城市有辦事處或分支機構，2020年中國區有超過1100人的團隊，為行業新增和培育了大量光刻技術人才。

“從第一台光刻機開始，ASML就是中國半導體行業的親歷者、見證者、和推動者。未來，ASML還將持續投入、擴大布局、培養人才，攜手行業夥伴，和中國半導體產業實現共同發展。”他表示。

作為光刻機領域的世界龍頭老大，阿斯麥為何頻繁向中國“示好”？

這裏需要提一下背景。

9月16日，中科院院長白春禮在國新辦發佈會上表示，未來十年中科院會針對一些卡脖子的關鍵問題做一些新的部署，包括航空輪胎、軸承鋼、光刻機在內的一些關鍵核心技術、關鍵原材料等，中科院將集中全院的力量來做。

另外，雖然全世界目前只有阿斯麥可以造EUV光刻機，但EUV之外的光刻機，日本尼康和佳能也可以製造。10月12日，日經新聞就報道稱，中國企業擬向兩家日本公司提供資金，要求共同開發除EUV以外的新型光刻機。

而在國家戰略層面，不久前發佈的中共十九屆中央委員會第五次全體會議公報中強調，堅持創新在我國現代化建設全局中的核心地位，把科技自立自強作為國家發展的戰略支撐，面向世界科技前沿、面向經濟主戰場、面向國家重大需求、面向人民生命健康，深入實施科教興國戰略、人才強國戰略、創新驅動發展戰略，完善國家創新體系，加快建設科技強國。

從以上信息可以看出，國家、企業、科研院所將共同發力，力爭攻克關鍵技術，實現科技自立。

這或許讓阿斯麥感到緊張了，如果中國攻克光刻機的關鍵技術，哪怕只是DUV，對前者在中國市場得營收影響都不容小覷。

同時需要注意的是，阿斯麥在財報會上僅提到DUV可向中國出口，卻閉口不談EUV，是否可以理解為“兩面下注”，既要在中國市場賺錢，又不敢得罪美國。

由此可以看出，掌握核心科技才是中國企業最好的出路。