三星稱首條EUV產線投產，年底7nm以下產量增兩倍

（文/觀察者網 朱紫薇）2月20日，三星宣佈其首條基於極紫外光刻（EUV）技術的半導體生產線V1已經開始大規模量產。

三星表示，一季度V1產線將開始首批交付7nm和6nm的移動芯片，預計到2020年年底，7nm以下的產能將增加兩倍。

圖片來源：三星官網

三星 V1生產線位於韓國華城，2018年2月破土動工，於2019年下半年開始測試晶圓生產。

“隨着產量的增加，V1系列將增強三星響應市場需求的能力，並擴大為客户提供支持的機會。” 三星總裁ES Jung博士説道。

三星指出，V1生產線目前正在生產7nm、6nm移動芯片，並將繼續採用更精細的電路，直至3nm工藝節點。

根據該公司的計劃，到2020年底，V1生產線的累計總投資將達到60億美元，預計7nm及以下工藝節點的總產能將比2019年增長兩倍。

三星表示，隨着半導體幾何尺寸越來越小，EUV光刻技術的採用變得越來越重要，為5G，AI和汽車等下一代應用提供了最佳選擇。

隨着V1生產線的投入使用，三星現在在韓國和美國共有6條生產線，其中包括5條12英寸生產線和1條8英寸生產線。

圖片來源：三星官網

觀察者網此前梳理發現，早在2018年6月，台積電已透露量產7nm工藝，2019年二季度量產7nm EUV工藝。

另外，對於7nm以下工藝，2月18日，路透社報道指出，三星已獲得高通5nm部分訂單。雖然台積電今年也將量產5nm工藝，但三星仍希望通過提升這項工藝，在與台積電激烈的競爭中獲得市場份額。

（編輯：尹哲）

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