陳經：中國芯片去美化技術體系下 差距肯定都是十年以上_風聞

轉自亞洲視覺科技研發總監@風雲學會陳經 5月4日文章

看來羣眾對中國芯片製造技術的現狀還很不瞭解

1. 國內規模最大技術水平最高的是兩家。中芯國際名氣最大，其實是市場化的。真正的國家隊是華虹，這個知道的人就少多了。其它的都不太行，還談不上先進製程。

2. 評估技術水平是兩個指標，在美式技術體系下如何，去美化（不是全國產）技術體系下什麼水平。

3. 目前中芯國際在美式技術體系下發展最好，14nm量產良率達標，更先進的相當於7nm的技術路線也有重大進展（但是基於DUV光刻機，先天不如EUV光刻機的台積電和三星）。

4. 華虹在美式技術路線上，14nm已經取得進展，準備2022年量產。但是華虹肩負一個重任，就是要主力去實現去美化產線，具體由旗下的ICRD（上海集成電路研發中心）負責。其中光刻機有上海微電子SMEE負責，理論水平是90nm，據傳2021年底28nm光刻機會有。但是在芯片製造核心環節，SMEE無論是在中芯國際還是華虹的產線上都等於沒有（據説放了吃灰），只在封裝測試的非核心環節佔有率還不錯。

5. 中國去美化技術能做出什麼樣的芯片，目前沒有人知道，理論上是90nm，但是也沒有驗證線明確説可以。因此這個問題現在沒有説法。基本可以肯定，去美化國產驗證線調試（45nm或者28nm）在上海和北京有在搞，如果年底能開始開始調試都不錯了。

6. 調試通過的話，良率可能是10%之類的，還沒有實際經濟價值的，但已經是極大的進展了。然後要開始良率爬坡，爬到90%算不錯，少點也有意義。這個過程很麻煩，經常卡住。如果2023年良率能過的去都算是極為理想了。哪怕不是28nm，45nm都可以，不應該指望一切順利，個人覺得按技術規律肯定會卡住一段時間。

7. 還有部分去美化的嘗試，中芯國際在產線上給國產機器測試機會。這個很複雜，到底要怎麼搞説不清。芯片製造業界人士普遍比較保守，放大話會被人笑話。

8. 輿論對於技術難度，還是不太懂或者説不太相信的。從發展歷史來説，這是中國最不擅長的高精度領域，捲入了很多高科技短板。台積電要沒有外部支持，直接就死了。而中國需要去把這些條件都一個個解決，需要的工作量極為龐大。張忠謀説大陸差距在五年以上，這是指在美式技術體系下，還能聊差距。如果是指去美化技術體系，其實沒有任何人能給出時間估計，但肯定都是十年以上。等於台積電加上業界整個技術體系，和中國自主技術比較，現在真不適合比較，先要努力達到能被説落後十年的程度。

9. 關於美式技術路線下的產能過剩問題，這還能聊下。現在的策略是，就算有美國斷供的風險，也要增加美式技術芯片產能。美國和歐洲都在增加芯片產能，他們關注先進製程的。中國還沒資格談先進製程的產能，看中芯國際和華虹半導體的報表就知道了。

10. 中芯國際大陸最大，但是也只有4.8%的市場份額。而中芯國際14nm收入佔總收入比例幾乎可以忽略不計，和28nm加一起也只有5.0%，主要收入靠40-45-55-65nm，以及0.15微米。原因應該是沒有大客户給單，華為的14nm單沒了影響很大。這不是產能過剩，而是説明中國芯片產業需要全方位追趕，芯片設計公司也要敢於挑戰14nm，併成功賣出足夠的量，像華為14nm手機一樣。這種情況下，用一句“28nm產能過剩”來概括問題實在太簡單。如果大陸公司能給出一堆14nm和28nm的訂單，都是好的不得了的事，但是這很難。