不吹不黑，哈工大的可調諧激光技術國家級重點實驗室，在某些方面可以傲視全球_風聞

【本文由“guan_15723040491364”推薦，來自《長春光機所研發的國產EUV光刻機物鏡系統開始裝配了》評論區，標題為小編添加】

登錄看過一篇文章，説DPP-EUV光源功率不夠，只能是實驗用。產業化的話只能LPP或者LDP路線。

1、一種是DPP-EUV極紫外光源。放電激發等離子體EUV極紫外光源。荷蘭ASML光刻機公司，哈工大研究的都是這一種。DPP EUV光源利用放電使負載（Xe或Sn）形成等離子體，輻射出紫外線，利用多層膜反射鏡多次反射淨化能譜，獲得1EUV光。DPP EUV光源的優點是產生EUV的能量轉換效率高，造價低；缺點是電極熱負載高，產生碎片多，機制複雜，光學器件易於受損，光收集角小

2、激光等離子體光源(LPP)LPP EUV系統主要包括激光器、匯聚透鏡、負載、光收集器、掩膜、投影光學系統和芯片。其原理是利用高功率激光加熱負載(Xe或Sn)形成等離子體，等離子體輻射出紫外線，利用多層膜反射鏡多次反射淨化能譜，獲得1EUV光。LPP EUV光源的優點是光源尺寸小，產生碎片或粒子的種類少，光收集效率高以及較容易放大EUV輸出功率。當然它也有缺點，主要是系統設計複雜，價格昂貴。

這2種光源。哈工大都在15年前就研究了

哈爾濱工業大學的可調諧激光技術國家級重點實驗室 。某些方面，可以傲視全球！

1、2009年研製成功大功率的著名的神光-3的靶場系統。

2、2017年全球首次實現4萬公里高空衞星激光高通量雙向傳輸通訊。

3、2018年研製出大功率的150瓦的DPP-EUV極紫外光源（全球2家之一）