【翻譯】中國克服半導體劣勢，或者美國克服稀土劣勢，那種努力更可能成功？_風聞

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中國克服半導體劣勢，或者美國克服稀土劣勢，那種努力更可能成功？

本文譯自Quora，原標題：Which effort is more likely to succeed? China’s effort to overcome semiconductor disadvantage viz US? Or US’ effort to overcome rare earth disadvantage viz China?

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Robert Quek

former Retired. Prior Employment in Finance Sector，Lived in Lived in Singapore

前退休人員，曾在金融部門工作，生活在新加坡

兩者都能成功。

稀土一點也不稀有。只是因為提取礦物的過程非常污染環境，所以美國才一直樂於購買精煉稀土，讓中國承擔污染的後果。處理稀土的技術也並不是什麼尖端科技，因此，美國的問題在於它是否願意承擔污染。

但它更願意避免這種做法，並試圖通過鼓勵其他國家這樣做，以使其稀土來源多樣化。澳大利亞就是一個例子，它也不想承擔污染的後果。一家澳大利亞公司在馬來西亞建立了一家稀土加工廠，但它很快就意識到了污染問題。由於其沒有能使當局滿意的任何解決方案，該公司已被指定了終止經營的日期。

中國對美國半導體禁運的反應是提高自己的產量。中國實施的戰略不僅僅在於芯片，而是意圖構建整個供應鏈。來自政府的鼓勵是顯而易見的，其形式包括聯合研究、資助、訂立合同、共同投資等，幾乎在一夜之間就有數千家新的私營公司在技術領域湧現。

美國的禁運包括芯片、美國的技術和設備，以及其他國家擁有的使用這些技術和設備的公司。影響最嚴重的是高端芯片，比如智能手機中的5nm芯片。華為的手機業務因此而一落千丈，在6月份推出其專有的HarmonyOS之後，該公司正試圖重新在中國獲得市場份額。由於美國的長臂管轄，ASML無法將其出售給中芯國際的光刻機訂單發貨。

但中國已經具備了生產低端芯片，如14nm和24nm芯片的能力，這些芯片是其他行業（尤其是汽車行業）使用得最多的芯片。僅僅中芯國際就與政府實體聯合投資了近200億美元新建了4家工廠（上海（2）、深圳和北京）來生產14納米和24納米芯片。根據一份報告稱，其14nm的工廠能夠使用一種光刻替代技術生產7nm芯片。

據報道，許多在華外國公司已採取措施在技術和設備方面“去美國化”。中國是一個巨大且富有的市場，沒有人想失去它。

繼續來説稀土和半導體。稀土貿易仍在繼續，對中國的稀土企業沒有影響。而美國的半導體供應商對美國的禁令不感興趣，它們提出了許多豁免申請，因為失去中國市場是痛苦的。

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Bill Sze

“根據一份報告稱，其14nm的工廠能夠使用一種光刻替代技術生產7nm芯片。”，這是一份來自中國的新聞稿，未經獨立驗證，也沒有基於這種技術的設備正在計劃中。如果這一替代方案隨時可用，中芯國際將立即建設7nm晶圓廠。

“據報道，許多在華外國公司已採取措施在技術和設備方面“去美國化。中國是一個巨大且富有的市場，沒有人想失去它”。這不適用於核心技術來自美國的EUV 光刻機，因為ASML無法將美國技術從EUV光刻機中剝離。ASML完全壟斷了EUV光刻機，因此，除非已經談論了十年的替代技術現在出現並改變局面，否則中國的處境仍將十分艱難。

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Robert Quek（答主）

我相信中芯國際的報告。我同意達到7nm並不容易，但這並不意味着它現在就應該建立一個單獨的7nm工廠。它有自己的戰略，它目前在建的4個工廠需要大量熟練的人力和人才。我認為，中國希望確保能夠優先為其產業提供最普遍使用的芯片。

ASML是荷蘭而不是美國的公司。我瞭解到，該公司董事長對美國的禁運感到不安，因為這將意味着它將失去價值數十億美元的銷售額，很可能還會在中國製造一個競爭對手。換句話説，他尊重中國的能力。

當然，這是一個艱難的局面，但中國在它之前的處境更為糟糕。

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Bill Sze

我對7nm芯片的理解是它需要EUV光刻技術。中國的半導體制造瓶頸不僅僅在於缺少EUV光刻技術，它還缺一些技巧。三星和英特爾可以獲得他們想要的所有技術，但它們還是無法像台積電那樣製造先進的芯片。與美國對中國稀土材料的依賴相比，中國突破並解決對外國半導體的依賴是一個更加困難的任務。

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Robert Quek（答主）

我沒有技術方面的背景。以下是Quora網友Felix Su在2020年9月發佈的內容。

中芯國際可以使用台積電發明的多圖案工藝（multi-patterning process），在不使用EUV光刻機的情況下印刷7nm晶圓。這需要更長的時間，因為您必須讓晶圓多次通過機器。中國正試圖在步進式光刻機（stepper）技術方面趕上美國，他們已經宣佈他們在步進式光刻機（stepper）內使用激光進行印刷設計方面取得了突破，可以做到5nm。德國也生產不使用美國技術的步進式光刻機（stepper），而且他們急於進入中國市場。

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