光刻機國產化消息不佳，還需要加大燒錢_風聞

原創 前HR本人 前HR隨筆 今天

半導體產業還是要加大投入！最近一些新聞説中國28nm光刻機沒有通過商用驗收，實際情況如何，不知道具體官方信息。説28nm光刻機不是很嚴謹，通常應該是193nm光刻機在浸液環境下實現28nm產品的。

但是有一個信息是確認的，就是ASML公司表示，公司預計其產品在中國的需求依然強勁，2021年銷售額將達到約20億歐元，收入來自邏輯芯片代工和內存芯片客户。而且，ASML的CFO表示他們現在滿負荷生產還無法滿足客户要求，預計在中國營收這樣的數字水平會維持下去、乃至有增長，所以明年的銷售也是相當強勁的。

也就是説，AMSL一年在中國營收就20億歐，如果考慮ASML的高毛利，一年在中國賺的毛利超過10億歐元，這個利潤要是中國企業自己投到光刻機，相當於1年70多億元，連續投幾年估計就成了，因為中國光刻機累計研發投入都不到10億歐元。

光刻機需要多路前進，類似新冠肺炎疫苗一樣，可能不能吊死在一個公司，否則如果長時間難以突破也是很要命的。

這個事情還是要大基金戰略投入，分技術分子項目分包給各個子公司，並搭建測試線，實現原位替換是最好的。

28nm以下光刻機的四大領域中鏡片、雙工台、光源、工作液。除了雙工台之前突破，國內在28nm的鏡片、光源和工作液都是全新的，研發起來工作確實比較多。但是核心還是投入不夠，如果錢夠多，就可以搞足夠多的人才和子項目組，多路徑飽和攻擊，最終哪個衝破技術門檻哪個團隊就勝出。

另外，要有一、二條完整的測試線，隨時給國內廠家進行同位替換測試，通過大基金不計成本投入才行。目前什麼技術美國人都卡，對中國是巨大的風險，特別是考慮到統一台灣肯定會帶來一系列經濟鬥爭問題更是急不可待了。

最近看到吉林省將推進10項前沿領域技術攻關項目，其中包括由中科院長春光機所承擔的EUV光刻技術，那就非常棒了。當然還差適用於EUV光刻機的鏡片技術要突破，這個需要中科院專項投入。

當然，除了ASML外，業界光刻機廠商是日本佳能和尼康，他們的技術水平在浸液模式下也到了12-14nm。中國可以大量挖他們人才過來，特別是那些退休工程師和專家，日本退休專家很多有家庭矛盾，到中國來發揮餘熱是很棒的。

中芯CEO趙海軍説半導體制造端至少還有5倍的產能成長空間。那半導體設備這個值得更多投入，特別美國人卡脖子的光刻機等設備，卡什麼就重點投入什麼。

可能像搞光伏產業鏈一樣，搞個10年就差不多了，其中要有大量燒錢的遊戲，剩者為王！