晶瑞從韓國進口二手光刻機到貨：可用於研發28nm光刻膠

觀察者網·大橘財經訊（文/呂棟 編輯/周遠方）歷時近4個月，晶瑞股份從韓國進口的二手ASML浸沒式光刻機終於到貨，“可用於研發最高分辨率達28nm的高端光刻膠”。

受此影響，創業板上市的晶瑞股份今天盤中最高漲逾13%；截至發稿，漲幅回落至5.12%；換手率超過11%，成交額近6億元，市值約68億元。

觀察者網查詢“i問財”信息發現，去年5月以來，包括晶瑞股份董事長吳天舒、董事蘇鋼、副總經理常延武、副總經理胡建康等在內的高管多次減持該公司股份，變動市值近1.4億元，減持原因為個人資金需求等。

圖片來源：晶瑞股份

耗資超7000萬元

1月19日，晶瑞股份公告披露，經該公司多方協商、積極運作，順利購得ASML XT 1900 Gi型光刻機一台。該設備於當天運抵蘇州併成功搬入該公司高端光刻膠研發實驗室，可用於研發最高分辨率達28nm的高端光刻膠。下一步，該公司將組織相關資源，儘快完成設備的安裝調試。

公告截圖

晶瑞股份這次採購最早披露於去年9月29日，該公司股價當天漲停。

當時的公告披露，其為開展集成電路製造用高端光刻膠研發項目，擬通過代理商進口韓國SK Hynix的ASML光刻機設備，總價款為1102.5萬美元（約合人民幣7138萬元）。

這台浸沒式光刻機並非ASML最先進產品。官網顯示，ASML浸沒式DUV光刻機最新型號為TWINSCAN NXT:2000i，可用於7nm工藝生產，而該公司一台EUV光刻機的價格甚至超過1億歐元。

晶瑞股份表示，本次購買的ASML光刻機設備系該公司集成電路製造用高端光刻膠研發項目的必要實驗設備，旨在研發出更高端的ArF光刻膠，若研發工作進展順利，將有助於該公司將光刻膠產品序列實現到ArF光刻膠的跨越，並最終實現應用於12英寸芯片製造的戰略佈局。

圖片來源：晶瑞股份

公告中介紹，晶瑞股份量產光刻膠近30年，先後承擔了國家“85”攻關、“863”重大專項、科技部創新基金等科技項目、承擔了國家02重大專項“i 線光刻膠產品開發及產業化”項目，並順利通過國家02重大專項驗收，該公司完成中試的KrF光刻膠已進入客户測試階段，達到0.15μm的分辨率。

晶瑞股份還提示風險稱，研發項目經歷時間較長，且至產業化並最終實現銷售產生利潤仍需一定時間，本次購買的光刻機設備價格昂貴，其折舊及後續維護費用預計對經營業績存在一定影響。

財報顯示，2020年1-9月，晶瑞股份實現營收7.14億元，同比25.32%；實現淨利潤0.6億元，同比增長196.42%；實現扣非淨利潤0.3億元，同比增長121.16%；計入當期損益的政府補助859萬元。

而光刻膠業務並非晶瑞股份業績支撐點。2020年半年報顯示，晶瑞股份鋰電池材料營收佔比35.04%；超淨高純試劑營收佔比29.48%；光刻膠營收佔比為10.05%。該公司透露，其生產的i線光刻膠已向合肥長鑫、士蘭微、揚傑科技、福順微電子等行業頭部公司供貨。

2020年三季報截圖

國產28nm光刻機定於去年底驗收

觀察者網梳理發現，按應用領域分類，光刻膠可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠。目前，國產光刻膠以PCB用光刻膠為主，顯示面板、半導體用光刻膠供應量佔比極低。

而在半導體制造領域，光刻機光源波長逐漸由紫外寬譜縮短至g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先進的EUV(<13.5nm)線水平，降低曝光波長與光刻機使用的光源以及光刻膠材料高度相關。

圖片來源：方正證券研報

目前，全球光刻膠市場基本被日本、美國、中國台灣等國家與地區幾家大型企業所壟斷，如日本合成橡膠（JSR）、東京應化（TOK）、住友化學、信越化學、美國羅門哈斯等，市場集中度非常高。

國元證券2019年1月研報

不過，中國大陸企業也在加緊佈局，業內相關企業有北京科華微電子、晶瑞股份（瑞紅）、南大光電、上海新陽、容大感光等。

上個月，南大光電發佈公告稱，其自主研發的ArF光刻膠產品近日成功通過客户使用認證，可用於90nm-14nm甚至7nm技術節點，這也是國內通過產品驗證的第一隻國產ArF光刻膠。

而光刻機對光刻膠的檢測評估必不可少。去年4月，在國家“02-專項”和寧波北侖區政府支持下，南大光電從荷蘭進口一台193nm浸沒式光刻機，用於光刻膠的驗證和配合客户進行特種光刻工藝的開發工作。

光刻機被譽為“超精密製造技術皇冠上的明珠”，市場集中度比光刻膠更高，目前被ASML、尼康、佳能等廠商壟斷。在當前局勢下，實現光刻機的國產替代勢在必行，具有重大戰略意義。

2020年6月，方正證券在一份研報中提到：“在02專項光刻機項目二期中，設定的時間為2020年12月驗收193nmArF浸沒式DUV光刻機，其製程工藝為28納米，對標產品為ASML現階段最強DUV光刻機：TWINSCAN NXT:2000i。以NXT:2000i為例，各子系統拆分如下：上海微電子負責光刻機設計和總體集成，北京科益虹源提供光源系統，北京國望光學提供物鏡系統，國科精密提供曝光光學系統，華卓精科提供雙工作台，浙江啓爾機電提供浸沒系統。”

方正證券2020年6月研報截圖

不過，觀察者網查詢上海微電子官網發現，其SSX600系列步進掃描投影光刻機最低分辨率為90nm，三款步進掃描投影光刻機於2016年實現量產。目前，90nm製程的芯片一般用於電源管理芯片、MCU等非核心芯片的生產，尚不能滿足手機處理器等產品的需求。

上海微電子官網截圖

去年9月16日，在華為被“斷供芯片”一天後，時任中科院院長白春禮在國新辦發佈會上表示，將把美國卡脖子的清單變成科研任務清單進行佈局，比如航空輪胎、軸承鋼、光刻機，還有一些關鍵的核心技術、關鍵原材料等，在國家最關注的重大的領域，集中全院的力量來做。

一個月後，荷蘭ASML首席財務官羅傑·達森表示，中國客户可以直接從荷蘭進口DUV光刻機，無需任何出口許可，但他並未提到更先進的EUV（極紫外）光刻機。

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