可用於7nm工藝光刻膠通過驗收，南大光電：尚未規模化量產
【文/觀察者網 呂棟】在昨日（7月29日）A股反彈行情中，半導體概念齊掀漲停潮，其中光刻膠指數更是大漲近10%領跑所有板塊。光刻膠個股中，南大光電收漲20%，晶瑞股份收漲14%，上海新陽收漲11%。
昨天下午收盤後，南大光電發佈公告稱，該公司承擔的國家02專項ArF光刻膠項目通過專家組驗收，這種光刻膠可用於90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路製造工藝，已建成年產25噸產業化基地。
不過，南大光電也提示風險稱，目前ArF光刻膠產品尚未實現規模化量產。ArF光刻膠的複雜性決定了其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，後續是否能取得下游客户的大批量訂單，能否大規模進入市場仍存在較多的不確定性。
今天（7月30日）南大光電高開逾1%，隨後快速拉昇，截至發稿漲幅擴大至14.21%，市值325億元。
7月29日A股板塊漲幅情況
7月29日，南大光電公告披露，該公司作為牽頭單位，承擔的國家科技重大專項（02專項）“極大規模集成電路製造裝備及成套工藝”之“先進光刻膠產品開發與產業化”項目，收到極大規模集成電路製造裝備及成套工藝實踐管理辦公室下發的項目綜合績效評價結論書，項目通過了專家組驗收。
南大光電公告截圖
在集成電路製造領域，不同波長光源的光刻機需要搭配相應波長的光刻膠進去光刻。目前半導體光刻膠最常使用曝光波長分類，主要有g線、i線、KrF、ArF和最先進的EUV（極紫外）光刻膠。其中，DUV（深紫外）光刻機分為幹法和浸潤式，所以ArF光刻膠也對應分為幹法和浸潤式兩類。越先進製程相應需要使用越短曝光波長光刻膠，以達到特徵尺寸微小化。
根據公告，南大光電承擔的02專項光刻膠項目總體目標是開發高端集成電路製造用ArF乾式與浸沒式光刻膠成套工藝技術，形成規模化生產能力；構建與集成電路行業國際先進水平接軌的技術和管理人才團隊，建立完善的技術開發、生產運行、品質管理、市場開拓運行體系和ArF光刻膠產業自主發展相應的知識產權體系。
該項目分為三個子課題，其中南大光電控股子公司寧波南大光電材料有限公司 （下稱：寧波南大光電）承接的課題名為：ArF 光刻膠產品的開發和產業化（課題編號：2018ZX02402001）。該子課題主要在以下方面開展研究：
1、ArF光刻膠產品配方及工藝的開發；
2、配方關鍵組分材料的開發；
3、ArF光刻膠產品及關鍵組分的分析測試能力的研究；
4、ArF光刻膠的產業化研究。
公告中提到，ArF光刻膠材料可以用於90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路製造工藝，廣泛應用於高端芯片製造（如邏輯芯片、 存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和雲計算芯片等）。長期以來， 國內高端光刻膠市場長期為國外巨頭所壟斷，對國內芯片製造具有“卡脖子” 風險。儘快實現先進光刻膠材料的全面國產化和產業化，具有十分重要的戰略意義和經濟價值。
南大光電錶示，在項目驗收過程中，專家組依據有關規定，聽取了該公司關於項目任務及財務執行完成情況彙報、現場測試組的測試報告、用户報告、審計報告及預算調 劑申請報告等，查閲了檔案資料，經過質詢和討論，一致認定項目已經完成了任務合同書中規定的各項考核指標。專家組同意項目通過績效評價驗收。
驗收專家組認為：
1、光刻膠是集成電路生產過程中的關鍵材料，通過本項目的實施，掌握了ArF乾式和浸沒式系列光刻膠產品的原材料製備、配膠、分析檢測、應用驗證等關鍵技術，在知識產權和人才培養等方面取得重要進展。
形成了由51人組成的ArF光刻膠研發與生產管理團隊，建成了ArF光刻膠產品（包括乾式和浸沒式）的質量控制平台、年產5噸的乾式 ArF光刻膠及年產20噸的浸沒式ArF光刻膠產業化生產線；建立了科研經費管理相關的財務制度，並能有效執行；申請專利91項，其中國內發明專利81項，國際發明專利4項，實用新型專利6項（已授權），制定團體標準3項，研製新產品2項；實現ArF光刻膠產品銷售，完成了任務合同書規定的主要考核指標。這是我國集成電路關鍵材料自主創新的一個重要成果。
2、寧波南大光電已建成年產25噸ArF光刻膠產業化基地，具備進一步擴大生產的能力，建議抓住機遇，儘快擴產。
南大光電錶示，項目研發任務的完成，預計將對該公司光刻膠事業的未來發展產生積極影響。
不過，公告中也提示風險稱，目前ArF光刻膠產品尚未實現規模化量產。ArF光刻膠的複雜性決定了其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，不僅需要技術攻關，還需要在應用中進行工藝的改進、完善。同時，ArF光刻膠產品國產化替代受品質、客户的嚴格要求，後續是否能取得下游客户的大批量訂單，能否大規模進入市場仍存在較多的不確定性。這些都會影響ArF光刻膠的量產規模和經濟效益。
眼下，全球半導體光刻膠市場主要被日本企業高度壟斷，並且在越高端的市場壟斷地位越明顯。目前，全球半導體光刻膠龍頭廠商是TOK（東京應化）、信越化學、JSR（日本合成橡膠）、住友化學、富士膠片等日企和美國陶氏化學，這些龍頭企業總計佔據各半導體光刻膠細分領域超過85%市場份額，其中頭部日企在各個細分領域都佔據主導地位。最先進的EUV光刻膠領域則完全被日企所主導，日本的JSR、TOK、信越化學成為EUV光刻膠市場上僅有的實現量產的廠商。
全球光刻膠市場格局 華泰證券2020年11月研報截圖
今年5月，南大光電曾在業績説明會上透露，該公司ArF光刻膠性能上和日本產品達到同等水平，並實現了ArF光刻膠的本土化，打破了被國外長期壟斷的被動局面，已經拿到國內光刻膠的首個訂單，實現小批量銷售，“用於質量檢測的光刻機等量測設備是國外進口的，我們已經配備了，運轉良好，沒有被卡的顧慮。主要原材料是自己開發和生產的，沒有被卡風險。生產設備是聯合國內企業研製的，也不存在被卡風險”。
2020年，南大光電營收5.95億元，同比增長85.13%；淨利潤0.87億元，同比增長58.18%；扣非淨利潤為212萬元，同比下滑94.25%；研發投入為2.3億元，（含資本化部分）同比增長247.54%，佔營收比重為38.98%。
從財報來看，光刻膠項目尚未給南大光電貢獻營收，該公司主要營收來自MO源產品（佔比20.21%）和特氣產品（佔比72.18%）。
財報介紹，MO源系列產品是製備LED、新一代太陽能電池、相變存儲器、半導體激光器、射頻集成電路芯片等的核心原材料，在半導體照明、信息通訊、航空航天等領域有極其重要的作用；而電子特氣是“集成電路、平面顯示器件、化合物半導體器件、LED、太陽能電池、光纖等電子工業生產中必不可少的基礎和支撐性材料”。
2020年財報截圖
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