透過4億元融資看科視光學“國產替代”的野望_風聞

2022年的北京冬奧會，是一場中國科技創新成果的“武裝”盛會，每一項技術硬件拿出來，都是中國人的驕傲。而這些企業背後，同樣站着服務商的身影。

近日，高端光學裝備及機器視覺光源廠商科視光學完成了近4億元C輪融資，本輪融資由中芯聚源、民生股權投資基金、洪泰基金聯合領投，產業投資方鑫睿資本、分享投資等跟投。

這是科視光學在一年不到的時間內，完成的第二輪融資，在2021年6月，已完成了由深圳慧和資產領投的7500萬元B輪融資。

這接連不斷的融資，無不彰顯着來自科視光學自有技術的商用化成果。

從單場景到賦能全產線

科視光學成立於2011年6月。成立之初，專注於機器視覺光源及光源控制系統，產品主要應用於各領域高端智能化裝備的視覺定位、測量及外觀檢查。

2015年隨着全球PCB產值穩定增長，機器視覺光源廠商迎來全新發展機遇。科視光學研發團隊將光源技術應用到PCB領域，並研製出國內領先的近紫外LED曝光機，走上高端曝光裝備的國產替代道路。

隨後三年內，科視光學2018年研製出國內首台雙面雙框防焊半自動LED曝光機，獲得國家發明專利，解決了防焊製程只能單面曝光的技術難題。

目前，傳統的綠油防焊菲林曝光機，依然是國內大多數PCB企業的主力生產設備；但是受制於傳統綠油防焊菲林曝光機的製程能力缺陷，該種機型難以生產高精度的產品，且各種曝光不良造成的產品報廢，會進一步增加製造成本。因此，PCB企業迫切需要防焊DI數字光刻機，替代傳統菲林曝光機，以提高精度和良率。

2019年，科視光學研製出高產能的近紫外全自動防焊曝光機，攻克了光刻光源在能量、精度、多波長匹配、光源壽命、成本及效率等方面的技術難題。產能達到4.5PNL/分鐘，成為國內能夠解決MiniLED防焊曝光技術難題的核心裝備供應商。

除此之外，從公司的創新詞雲可以看出，其專利主要聚焦於PCB板、曝光機、光刻機、光源裝置、LED燈珠、全自動等相關領域。

在機器視覺領域，科視光學共服務了包括海康威視、大恆科技、大族激光、先導智能、邁為股份、瑞聲聲學、利元亨、博眾精工、楚天科技等1500多家企業，是國內機器視覺光源及控制系統的龍頭之一。

儘管科視光學擁有着領先的技術水平，但從市場的角度來看，所謂的技術領先就是存在市場的“相對空白”，這便不僅要考慮同類產品競爭對手的存在，更要考慮伴隨科技發展未來能否跟上時代的步伐。

芯片“印鈔機”背後的困境

從發展歷程看，機器視覺其實算不上是新賽道，把機器視覺產業鏈視為座標軸，橫座標為五大應用，分別是：顯示面板、光通信、光伏、醫療、機器視覺；縱座標為七個階段，分別是材料、芯片、設備、製造、傳感器、模組、算法和整機。

而作為電子產品最基礎組成部分的PCB，也迎來快速發展。據中國電子電路行業協會援引WECC報告，2020年，全球PCB產值達到730.97 億美元，本土PCB產值達到486.72億美元，佔據全球市場 66.59%的份額。

尋常的光刻機已無法滿足當下的生產需求，PCB企業迫切需要防焊DI數字光刻機，來替代傳統光刻機。這恰恰也是科視光學先於市場規模、年增速、應用場景等考量因素的硬科技賽道重要邏輯：“國產替代”。

高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造，主要以荷蘭ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌為主。從早期的認知困難到現階段的技術比拼，光刻機的發展也是一波三折層層迭代。

所有技術都具備一定侷限性，且技術落地還需要與相應場景特點相結合。科視光學的近紫外LED曝光機在應用過程中，也存在各種挑戰。

光刻機是光刻工藝的核心設備，價值含量大、技術要求高。光刻是IC製造中的關鍵環節，工藝難度最大，對技術和設備的要求也最高。光刻機作為光刻環節的核心設備，也是所有半導體制造設備中技術含量最高的設備。

根據摩爾定律，集成電路上可容納的元器件的數，每隔18個月就會增加一倍。這意味着，集成電路芯片的集成度大約每三年增加4倍，半導體器件的特徵尺寸大約每三年縮小兩倍。

尺寸更小的芯片，在電子速度一定的情況下，信號傳遞的速度就會越快，在一定時間內傳輸的信息就會越多。隨着芯片尺寸的變小，相同面積下可以承載更多的晶體管，高集成度則意味着芯片的高性能。可見晶體管的尺寸對於芯片的性能具有重大意義，而光刻機決定了晶體管的尺寸。

也正是因此，光刻機研發的技術門檻和資金門檻非常高，能生產高端光刻機的廠商非常少，到最先進的14-7nm光刻機就只剩下ASML能生產，日本佳能和尼康已經基本放棄光刻機的研發。

除了技術上的問題，讓企業運營的另外一個壓力在於技術突破和人才團隊的聚焦與持續發展。由於技術基礎比較薄弱，不但要攻克技術上的難點，還要解決攻克過程中的管理問題。

結語

摩爾定律走到極限之際，有幾條路徑是延續其壽命的關鍵，其中之一就是光刻機技術的突破。芯片小型化、微縮化是不可逆的趨勢。光刻機的進步代表着先進進程，這之外，產業也在積極尋找其他既能讓芯片維持小體積，又能保持芯片高效能的方式。

當下，全球芯片製造業都在擴產，無論是先進製程，還是成熟製程，都進入了一段高速發展時期。這些給光刻機相關的產業發展提供了難得的機遇。

AI、5G應用推動芯片微縮化，要實現5nm、3nm等先進製程，意味着需要更新穎的技術支援以進行加工製造，未來或許也會對科視光學們提出更多考驗。

來源：新工業洞察