研發光刻機需要多長時間？_風聞

光刻機一度成為卡脖子最重要節點，台灣特務、公知們也營造圖紙給你也做不出來，十年也做不出EUV光刻機。

我相信圖紙給你也做不出來，那是何院士這樣一輩子也沒有做過實事的政工幹部。產業界一線的如何看光刻機？

1.要幹就幹EUV。很多人以為如果中國做光刻機，必須先得做了大量的DUV，有了積累，才能去做EUV，EUV和DUV是必須的升級關係。

我看華為做芯片設計時，也以為他們會和中科院一樣，人家外國人幹586，我們幹個486，事實上華為做手機芯片一開始就瞄了世界上旗艦機芯片去的，幹三年，就成了，很多技術並不是必須把前一代做了，才能做後一代。航母也不必先做蒸汽彈射，再電磁彈射。

DUV現在我們可以大量買到，馬上可以建設晶圓廠，那就買，研發就奔了最頂的EUV去，時間是要花點時間，難度其實和幹DUV一樣的，那些要解決的問題，一樣要解決。

2.研發並不追求每一個環節都自己幹。眾多台灣特務為了認知作戰，散佈純國產化，意思是我們做光刻機每一個環節都要自己做出來。這隻能騙騙社會大眾。

我們做產業研發，目標是光刻機做出來，而不是每一個環節必須都是自己的。我們做C919，做高鐵，做盾構機開始都沒有所有環節自己做，也用了外國配件，這一點不丟人，光刻機當然開始會用外國配件，比如光源，比如透鏡，我們為什麼不用？做出光刻機，後面再一點點替代。再説了，我們要去蔡司訂個透鏡，蔡司不給我們做？它精神病嗎？

3.光刻機到底需要多少時間能研發出來？調研、論證不過一年了，真要設計其實一年也就行了，組裝出來挺多半年。當然組裝出來，要跑到很穩定，甚至商用，還是需要一定的時間，需要找到各方面的問題，一點點解決，不過有了機器，跑一年也就差不多了。這大致的時間2020年算，大家會有一個大概的感覺。

4.為什麼中國的EUV光刻機的研發速度會遠遠超過ASML？情境不同，效率當然不一樣。

1997年ASML從歐盟第六框架研發計劃中獲得2325萬歐元研發資助；在合作伙伴方面，ASML提出“客户聯合投資專案”，用股權向英特爾、台積電、三星等客户籌得53億歐元研發資金。ASML的光刻機2006年就已經完成了實驗室階段，但一直到2010年才有台積電訂了一台，因為當時並沒有市場，沒有人需要7nm的芯片。

ASML走過的約9年的時間跨度，因為根本沒有迫切研發要求，大量的溝通成本，慢慢做，做出來，就放着，事實上開始7nm生產後，迅速就形成量產能力。

今天中國進行光刻機研發，一方面因為卡脖子，有非常迫切要求，中國的研發人員在加班加點效率高，溝通成本低，有相當多的配件已經很成熟。用三年時間完成ASML並無市場壓力的9年研發是完全可以做到的。只要中國完成了研發，絕不會等幾年再找到用户。

ASML的EUV從最初籌集研發資助，到內部籌集資金，再到研發，沒有任何壓力，完全沒有用户，不緊不慢做了9年。今天對我們方向已經非常明確，有可以參考和研究的對象，有緊迫感和使命感，3年搞出來光刻機，我懷疑未必需要3年。

還是那句話，研發出來了，我們也看不到官宣，只有到了有一天已經在大量使用了，我們才能知道。相信再過幾年，又有人靠EUV光刻機要得國家科學進步獎，要評了院士了，這樣的院士比何院士的含金量還是要高一些。