原子彈和光刻機哪個難？_風聞

【本文由“馬氏體”推薦，來自《汪波：EUV光刻機的侷限與半導體產業的未來》評論區，標題為馬氏體添加】

信心當然要有，謙虛也是必須的。

原子彈和光刻機哪個難？對中國來講，其實都不難。中國畢竟是大國，狠狠心，集中資源，剩下的就是時間問題。

核武器是事關國家民族生死存亡的問題，光刻機還遠不到這一步。而且，我們實際上需要研發的是EUV光刻機，低端光刻機我們並不缺。EUV光刻機不應該和原子彈類比，應該和中子彈類比比。兩者都不是從0到1的發明，是從1到10000的發展。雖然實踐中還有很多小的創新發明，但是大的原理概念是早就有的。

在ASML發展EUV的過程中，確實有無數的工程創新是值得尊敬的。但是，既然知道這條路是可以走通的，再走一遍節省一半時間是可以預期的。問題其實在於，值不值得投那麼多資源去做。

這篇文章其實談了很多困難和方向，其實意思是，半導體的發展還有很多路徑，沒必要只盯着光刻機不放。作為大國，各個方向都要投入資源研究。EUV光刻機當然也要投資源，但是沒必要上綱上線搞成生死存亡的事來搞。

其實我們在新能源上的成功就是因為不弔死一棵樹，反而是歐洲和日本進入了路徑依賴，現在想轉向都難。在光刻機這個領域，在相當一段時間內，接受我們不如ASML這個現實，沒什麼大不了。這條路本來就越來越狹窄，説不定哪天就要到頭了。只要持續保持科研投入，總會有柳暗花明的那天。

就在十年前，互聯網上對我們的汽車工業一片哀嘆。當時可不是討論追趕國外巨頭，而是覺得國產汽車和國產品牌就要被消滅了。現在回頭看，真是恍若隔世。真實的世界不需要那麼多情緒化，少給半導體從業者壓力，讓他們安心去搞，一切都會有的。