原子彈和光刻機哪個難?_風聞
guan_15779619651540-10-02 08:48
【本文由“馬氏體”推薦,來自《汪波:EUV光刻機的侷限與半導體產業的未來》評論區,標題為馬氏體添加】
信心當然要有,謙虛也是必須的。
原子彈和光刻機哪個難?對中國來講,其實都不難。中國畢竟是大國,狠狠心,集中資源,剩下的就是時間問題。
核武器是事關國家民族生死存亡的問題,光刻機還遠不到這一步。而且,我們實際上需要研發的是EUV光刻機,低端光刻機我們並不缺。EUV光刻機不應該和原子彈類比,應該和中子彈類比比。兩者都不是從0到1的發明,是從1到10000的發展。雖然實踐中還有很多小的創新發明,但是大的原理概念是早就有的。
在ASML發展EUV的過程中,確實有無數的工程創新是值得尊敬的。但是,既然知道這條路是可以走通的,再走一遍節省一半時間是可以預期的。問題其實在於,值不值得投那麼多資源去做。
這篇文章其實談了很多困難和方向,其實意思是,半導體的發展還有很多路徑,沒必要只盯着光刻機不放。作為大國,各個方向都要投入資源研究。EUV光刻機當然也要投資源,但是沒必要上綱上線搞成生死存亡的事來搞。
其實我們在新能源上的成功就是因為不弔死一棵樹,反而是歐洲和日本進入了路徑依賴,現在想轉向都難。在光刻機這個領域,在相當一段時間內,接受我們不如ASML這個現實,沒什麼大不了。這條路本來就越來越狹窄,説不定哪天就要到頭了。只要持續保持科研投入,總會有柳暗花明的那天。
就在十年前,互聯網上對我們的汽車工業一片哀嘆。當時可不是討論追趕國外巨頭,而是覺得國產汽車和國產品牌就要被消滅了。現在回頭看,真是恍若隔世。真實的世界不需要那麼多情緒化,少給半導體從業者壓力,讓他們安心去搞,一切都會有的。