佳能：無法賣到中國！_風聞

11月8日消息，據彭博社報道，佳能公司正計劃將其新的基於“納米壓印”技術的芯片製造設備的價格定為ASML的EUV光刻機的1/10。由於該設備可以用於製造5nm尖端製程芯片，且不是基於光學技術，或將成為中國繞過美國限制來製造尖端製程芯片的可行方案。但是，佳能首席執行官三井藤夫在採訪中表示，該設備無法出口到中國。

據外媒報道，佳能執行長御手洗富士夫受訪時表示，Canon 最新 NIL 技術將幫助沒有大量資源的小型半導體廠獲得先進芯片製造技術，「機台價格將比 ASML 極紫外光（EUV）微影設備少一位數，最終定價尚未決定。我不指望 NIL 技術會超越 EUV，但相信會創造新的機會和需求，目前已收到許多客户的詢問」。

由於曝光設備昂貴，數值孔徑為 0.33的 EUV 系統造價超過 1.5 億美元，因此只有少數資金雄厚的公司才有能力投資這些工具，Canon 也暗示，NIL 設備成本將在約 1,500 萬美元，為小公司在先進製程打開新大門。

據悉，傳統 DUV 和極紫外 EUV 曝光系統使用特殊的光掩膜將電路圖案投射到抗蝕層芯片上；奈米壓印曝光技術使用的掩模（或模具）已將電路設計圖案化，然後直接印製在芯片抗蝕層上，這種方式不需透過光學系統來傳輸圖案，可更精確地將複雜電路設計從模具複製到芯片。

不過，曝光技術可一次加工整個芯片，NIL是連續製程，速度可能較慢。此外，NIL 在壓印步驟中，模具與基底直接接觸，容易產生缺陷，進而影響製程的產量和可靠性。

總部位於荷蘭的ASML是目前全球最大的光刻機廠商，同時也是全球唯一的極紫外光刻設備供應商。EUV光刻機是目前世界上最先進的芯片製造設備，每台成本高達數億美元。

雖然目前在光刻機市場，還有尼康和佳能這兩大供應商，但是這兩家廠商的產品主要都是被用於成熟製程芯片的製造，全球市場份額僅有10%左右，ASML一家佔據了90%的市場份額，並壟斷了尖端的EUV光刻機的供應。

值得注意的是，在美國施壓下，ASML被禁止出口 EUV 設備給中國客户，日本也同樣擴大出口限制，但沒有明確指出奈米壓印曝光技術。不過御手洗富士夫認為，公司設備同樣無法運往中國，「我的理解是，超過14nm技術的任何產品都禁止出口，因此我們將無法銷售」。日本經濟部官員表示，無法就出口限制對特定公司或產品的影響發表評論。

近十年來，Canon 一直與大日本印刷株式會社和內存芯片廠鎧俠合作研究 NIL 製程。新設備除了讓芯片製造商降低對代工廠的依賴，也使台積電、三星等大廠有機會生產小批量芯片。Canon 表示，這種設備所需的功率僅 EUV 設備 1/10。