互動平台“蹭”光刻機熱點，蘇大維格被深交所火速下發關注函

文/夏峯琳 編輯/徐喆

近期，光刻機相關概念股備受資本市場關注。9月14日，蘇大維格（300331.SZ）在互動平台表示， “公司光刻機已實現向國內龍頭芯片企業的銷售，並已實現向日本、韓國、以色列等國家出口。”隨即點燃市場情緒，午後開盤股價迅速拉昇，並實現20%漲停。

隨後蘇大維格做出澄清，表示公司出貨並非如ASLM的EUV掩摸光刻機，而是激光直寫光刻機。業內人士分析表示，激光直寫光刻機可用於掩膜版的製造，芯片製造中的光刻機是極紫外光（EUV）作為光源的光刻機。

儘管同為“光刻機”，卻謬之千里，上市公司在公開平台未能清晰表述導致股價異動，難免對市場存在誤導。

9月15日，蘇大維格收到深交所下發的關注函。不過，難擋投資者熱情，雖低開6.43%，但盤中一度摸高至38.78元，漲幅達17.09%。隨後震盪回調，截至收盤，報35元，上漲13.13%。

“光刻機”出貨，公司股價20CM漲停

光刻機被業界譽為集成電路產業皇冠上的明珠，研發的技術門檻和資金門檻非常高。光刻機EUV（極紫外）光刻機、DUV（深紫外）光刻機。此外，更早也有i線和g線光刻機。上述均屬於較為先進的半導體光刻機。除了半導體用，光刻機也用於面板、PCB（印刷電路板）的製造中。

隨着芯片工藝的先進化，電路設計圖日益精細和複雜，所需要的光刻精度也就越來越高，研發光刻機的技術要求、生產成本和生產難度都直線上升。迄今為止，世界上能自主研發和製造光刻機的廠商依然寥寥無幾。

因而當蘇大維格稱，公司光刻機以實現向國內龍頭芯片企業的銷售，並已實現向日本、韓國、以色列等國家出口時，市場立刻被引爆，公司股價當日錄得漲停板。

與此同時，也有投資者也追問：“公司光刻設備對比全世界同行業處於什麼階段？未來有沒有和國內同行合作研發製造光刻機計劃？”

對此，蘇大維格也在互動平台表示，光刻機主要有兩種類型。第一類是掩摸光刻機，如ASLM的EUV設備，好比“複印機”，把掩摸上的圖形投射到硅片上，可用於各類芯片的批量生產，這類光刻機技術工藝和材料難度極高；第二類是無掩摸光刻機，也稱直寫光刻機，包括激光直寫光刻機和電子束光刻機等，用於直接將數據轉變成相關圖形，好比“打印機”，可用於芯片/液晶掩摸、光模具及其他微結構的製備。

目前，公司對外銷售的光刻機主要為激光直寫光刻機，其中在科研教育領域具有一定的知名度和市場佔有率，在其他行業和領域已實現的銷售金額相對較小，部分應用領域離國際先進水平具有一定差距，需要持續的研發投入。

蘇大維格進一步解釋稱，DUV和EUV在生產芯片過程中使用的掩摸板，需要直寫光刻機機型進行製造。另據公司半年報，蘇大維格光刻設備已實現向國內某芯片龍頭企業實現銷售，並向國內廠商提供應用於IC芯片投影式光刻機的核心部件定位光柵尺產品。

財務數據顯示，2023年上半年，蘇大維格實現營收為7.88億元，較上年同期下滑10.47%。歸母淨利潤方面僅1217.69萬元，因去年同期基數僅137.66萬元，同比增幅達784.54%。

對此，深交所也要求蘇大維格結合不同類型光刻設備的技術路線的差異，補充披露公司所生產光刻設備的具體類型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境內外銷售情況，並核實説明公司光刻設備是否能夠直接用於芯片研發及製造、主要技術參數是否與業內龍頭廠商存在較大差距，並進一步提示相關風險。

“納米壓印”實驗室已實現10+nm

蘇大維格在互動平台還提及“納米壓印”技術。在回覆“納米壓印技術有沒有替代EUV光刻機的可能性”時，蘇大維格稱：“根據相關資訊，佳能等國際廠商擬試圖通過納米壓印技術在部分集成電路領域替代EUV光刻設備實現更低成本的芯片量產。”

關於納米壓印技術能否替代EUV光刻機，中國豪宅研究院院長城市運營專家朱曉紅向觀察者網表示：“納米壓印技術在一定程度上可以替代傳統光刻技術。該項技術可通過直接對待刻製表面施加力、壓力或應力，將圖案傳導到硅芯片上，可實現微米和納米級別的圖形轉移。目前，該技術在柔性顯示、納米光電子設備製造等領域已具備商業應用，但在集成電路和芯片製造領域的應用還處於初級階段，仍需進一步完善和發展。”

與非網副主編夏珍在接受媒體採訪時則表示：“納米壓印可潛在替代EUV、DUV。當DUV（技術）再往下走，日本廠商並沒有選擇EUV，而是採用了‘納米壓印’（Nanoimprint Lithography，NIL）技術，來開發新一代的設備。納米壓印技術和現在市場上的光刻技術有所不同。基於光學的曝光機，也就是我們常説的光刻機，從Reticle（掩膜版）到晶圓是4：1的縮小比例，而納米壓印技術下的Reticle選用特殊加工方法，從Reticle到晶圓是等比例的。這意味着只要Reticle能做到5nm，就能壓印出5nm的東西。”

夏珍還進一步介紹稱：“目前基於納米壓印技術的設備還沒量產，處於量產評價階段，但從實驗室的角度來看，已經實現了10+nm，未來將進一步拓展至5nm。”

另外，蘇大維格也表示：“納米壓印光刻領域，公司設備主要為自用，對外銷售金額與直寫光刻機相比較小；與此同時，公司也開發了投影掃描的光刻設備，擬應用於光伏電鍍銅圖形化領域，目前尚未實現銷售。”

對此，深交所要求蘇大維格説明：“公司納米壓印技術的具體用途、研發情況，以及在集成電路領域的佈局情況，並充分提示相關風險。”

除此之外，深交所還要求蘇大維格核實説明公司控股股東、實際控制人，董事、監事、高級管理人員及其直系親屬、持股5%以上股東近1個月買賣公司股票的情況，未來3個月內是否存在減持計劃，自查並説明你公司是否存在主動迎合市場熱點炒作公司股價、配合相關股東減持的情形。

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