蘇大維格涉信披違規被調查，曾因“光刻機概念”股價大漲

【文/觀察者網 鄒煦晨 編輯/呂棟】

10月9日，曾因“光刻機概念”被資金熱捧的蘇大維格一度大跌13.81%。截至收盤，蘇大維格跌幅收窄至5.99%，為25.25元/股，總市值為65.56億元。

股價走勢圖，數據來源：東方財富

消息面上，10月8日晚間，蘇大維格公佈了關注函回覆，以及收到證監會的立案通知。立案告知書顯示，因蘇大維格涉嫌信息披露違法違規，根據《中華人民共和國證券法》《中華人民共和國行政處罰法》等法律法規，中國證監會決定對蘇大維格立案調查。

蘇大維格對此表示，立案調查期間，公司將積極配合中國證監會的調查工作。

立案通知書，數據來源：公司公告

此前，蘇大維格於9月14日在互動平台表態“公司光刻機已實現向國內龍頭芯片企業的銷售”，公司股價在下午開盤後快速拉昇，並最終實現20%漲停，收於33.12元/股，當天成交額達到15.55億元，換手率高達25.89%。9月15日，深交所對蘇大維格發出關注函，並提出5大問題。

資料顯示，光刻技術是現代半導體、顯示面板、光電子等領域的產品製造過程中不可或缺的工藝流程之一。從曝光方式上，光刻機可以分為掩模光刻機（在運行過程中均需要使用掩模板），包括接觸式/接近式光刻機，投影式光刻機（如DUV 和EUV）等；以及無掩模光刻機，即直寫光刻機，包括電子束光刻機、激光直寫光刻機、激光直接成像設備（LDI）等。半導體及平板顯示製造普遍採用“直寫光刻製作掩模+投影光刻批量複製”的工藝過程。

在監管部門的問詢之下，蘇大維格坦稱，一般所稱的光刻機是有掩模光刻機中的投影式光刻機，與公司所生產的激光直寫光刻機不屬於同一技術路線。公司所生產的光刻設備目前不涉及集成電路領域相關產品的生產。

另外，蘇大維格於9月14日在互動平台回應光刻機話題時表示，“公司光刻機已實現向國內龍頭芯片企業的銷售，並已實現向日本、韓國、以色列等國家的出口；同時，公司向國內相關芯片光刻機廠商提供了定位光柵尺部件。”

但10月8日的回覆函顯示，蘇大維格開發生產的激光直寫光刻設備是一種多用途的設備，目前主要是自用，公司對外銷售的金額較小，2022 年實現對外銷售收入約770.93 萬元，2023 年上半年實現對外銷售收入約 2,177.27 萬元，客户主要包括兩類：第一類是高校和科研院所，其採購公司光刻設備主要是用作相關領域的研究。第二類客户是除高校和科研院所外的其他客户，主要包含各類企業客户，其採購公司光刻設備主要用於其部分產品的研發及小批量試製、微納光學材料及光通訊器件的製作等領域。

從銷售區域來看，蘇大維格光刻設備收入以境內為主。2022年境外收入為310.09萬元，2023年上半年則為0。

銷售區域摘要，數據來源：回覆函

回覆函顯示，蘇大維格光刻設備目前不涉及集成電路領域相關產品的生產，這部分市場被行業龍頭公司主導和壟斷。蘇大維格光刻設備主要為自用於各類微納光學產品和衍射光學器件的製造，對外銷售金額較小，外部客户採購主要用於相關領域的研發、試製和微納光學材料等生產。蘇大維格激光直寫光刻設備在最小線寬、線寬均勻度、網格精度、穩定性等關鍵技術參數與同行業龍頭公司相比存在較大差距。

在監管層的問詢下，蘇大維格表示，公司證券部門在回複相關互動易問題時，直接使用了“光刻機”、“龍頭芯片公司”等可能引起誤解的表述，未能充分考慮到部分投資者可能對光刻機的技術路線、相關技術的具體應用領域等情況不瞭解，未詳細説明公司光刻設備的具體類型，公司主要的應用領域，與行業龍頭企業的差距，以及客户主要用途等信息；也未説明相關設備收入佔公司收入比重較低，未充分提示相關風險。前述回覆引起了部分投資者誤會和誤解，並導致公司股價發生較大波動，對此，公司及公司證券部門誠懇向投資者表示歉意，並將積極吸取經驗教訓，進一步完善相關制度和程序，持續學習相關產業政策和文件，努力提升與投資者互動溝通的嚴謹性與信息傳遞的完整性，不斷提升公司信息披露水平。

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