ASML向英特爾首次交付“高數值孔徑”光刻系統-聲明 | 路透社

ASML標誌在荷蘭維爾德霍芬總部附近的一棟建築上，2023年6月16日。路透社/皮羅什卡·範德沃/文件照片

阿姆斯特丹，12月21日(路透社) - 荷蘭半導體設備製造商ASML(ASML.AS)週四表示，它正在向英特爾(INTC.O)公司發運其新款“High NA”極紫外光刻系統的第一批。

預計這些新機器每台將耗資超過3億美元，預計將幫助計算機芯片製造商生產更小、更快的半導體。

ASML發佈了一張機器的一個部分圖像，顯示它裝在荷蘭維爾德霍芬總部的一個保護箱中，箱子上繫着一條紅色絲帶在X社交媒體平台上。

聲明稱：“我們很興奮，也很自豪地向英特爾發運我們的第一台High NA EUV系統。”

ASML主導了光刻系統市場 - 這些機器使用激光來幫助創建芯片的電路。這些High NA機器在組裝後將比一輛卡車還要大，它們將分別裝在250個不同的箱子中，其中包括13個大集裝箱。預計它們將在2026年或2027年開始用於商業芯片製造。

英特爾在2022年訂購了第一批High NA試製機。其他訂購這些機器的芯片製造商包括台積電(2330.TW)、三星(005930.KS)、SK海力士(000660.KS)和美光(MU.O)。

ASML在11月30日告訴記者，該公司預計在年底之前發貨首批試製工具。