三星削減High-NA EUV光刻機採購量，與ASML合作研發案陷入不確定性_風聞

2024年8月20日，半導體行業傳出重磅消息。韓國電子巨頭三星電子（Samsung Electronics）近日決定削減其對下一代極紫外光（EUV）光刻設備的採購量，這一決定可能對其與荷蘭半導體設備製造商ASML的合作研發項目帶來深遠影響。據韓國媒體Business Korea報道，三星與ASML此前達成的諒解備忘錄（MOU）正面臨變數，這一事件引發了業界的廣泛關注。

2023年12月12日，韓國總統尹錫悦在訪問荷蘭期間，參觀了ASML的總部。這次訪問得到了高度重視，陪同人員包括荷蘭國王威廉-亞歷山大、三星會長李在鎔（Lee Jae-yong）、SK集團董事長崔泰源（Chey Tae-won）以及ASML首席執行官Peter Wennink。在這次訪問中，三星和ASML簽署了一份諒解備忘錄，計劃在韓國首都圈共同建設一個EUV聯合研發中心。此舉標誌着兩家公司將在EUV技術領域展開更為深入的合作，旨在推進下一代半導體技術的發展。

然而，短短半年之後，這一合作項目的前景已蒙上陰影。根據報道，三星在7月初的一次內部會議上通知ASML，決定大幅削減其原定採購的High-NA EUV光刻設備的數量。具體而言，三星原計劃在未來十年內採購超過三台ASML的下一代設備，包括EXE:5200、EXE:5400和EXE:5600。然而，最新消息顯示，三星目前僅決定引進EXE:5200型號，而是否採購後續型號將重新評估。這一決定是在全永鉉（Young Hyun Jun）接任三星設備解決方案（DS）事業羣負責人後，重新審視了正在進行的項目和投資計劃的結果。

這一採購計劃的調整，直接影響到了兩家公司在韓國京畿道華城市（Hwaseong）共同建設的EUV研發中心項目。報道稱，研發中心的土地採購和設計審批程序本已在穩步推進，但由於三星決定削減設備採購量，相關程序現已完全停滯。ASML與三星合作的研發中心是否會更改建設地點，甚或直接取消，目前尚無定論，這將是兩家公司未來討論的重點。

雖然三星高層表示High-NA EUV光刻設備的引進計劃並未改變，並強調兩家公司合作的研發中心將會在最合適的地點設立，但這一系列變動仍然引發了業內的廣泛擔憂。一位業內專家指出，如果三星與ASML能夠按原計劃推進合作，三星不僅可以在引進先進EUV設備上領先於競爭對手，還能夠近距離參與和觀察EUV技術的開發過程。然而，如果計劃發生改變，三星可能會錯失這些寶貴的機會。

此外，三星此舉還可能對其在高端代工市場的競爭力產生負面影響。High-NA EUV光刻設備被視為下一代半導體制造的關鍵工具，其高精度和高效率將有助於推動芯片製造工藝的進一步提升。三星削減採購量的決定，可能會延緩其在先進製程領域的佈局，從而影響其在與台積電（TSMC）等競爭對手的激烈競爭中佔據優勢。

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