全球光刻機巨頭業績“爆雷”，阿斯麥單日股價跌幅創26年之最_風聞
财闻网-10-16 17:57
阿斯麥發佈的財報顯示，公司在2024年第三季度的訂單額僅為26.3億歐元，環比下降53%，遠低於市場預期的53.9億歐元。同時，雖然阿斯麥三季度的淨銷售額為74.7億歐元，環比增長20%，並略高於分析師預期的71.7億歐元，但毛利率和淨收入等關鍵指標也未能達到市場預期。
在財報發佈後，阿斯麥的股價迅速下跌。據報道，由於財報的提前泄露和遠低於預期的業績，阿斯麥的股價在美股市場上出現了大幅下跌，一度創下近26年來的最大單日跌幅。這一跌幅也拖累了整個半導體板塊，費城半導體指數隨之創下9月初以來的最大單日跌幅。
阿斯麥的業績“爆雷”引發了市場的廣泛關注和討論。公司總裁兼首席執行官在財報中表示，雖然人工智能領域仍有強勁的發展和上升潛力，但其他細分市場需要更長的時間才能復甦。他預計，經濟復甦將比之前預期的更為緩慢，這種情況將持續到2025年，導致客户持謹慎態度。
值得注意的是，儘管阿斯麥的業績未達預期，但市場對於半導體板塊的整體前景仍然非常樂觀。國際半導體產業協會（SEMI）發佈報告稱，預計2024年全球原始設備製造商的半導體制造設備總銷售額將達到1090億美元，同比增長3.4%，創下新的紀錄。此外，SEMI還預計，2025年半導體制造設備銷售總額將實現約17%的增長，達到1280億美元。
阿斯麥作為光刻機領域的領軍企業，其業績的波動無疑對整個半導體行業產生了重要影響。此次財報的發佈，不僅讓投資者對阿斯麥的未來發展產生了擔憂，也引發了市場對半導體行業整體復甦進程的關注。
面對業績的下滑和股價的大幅波動，阿斯麥表示將繼續在產能爬坡和技術方面進行持續投資，為週期的轉向做好準備。公司預計到2025年，總淨銷售額將增長到300億到350億歐元之間，毛利率介於51%至53%之間。然而，這一前景預測仍然低於此前給出的指引區間，顯示出公司對未來市場的謹慎態度。
股價創近26年最大單日跌幅
隨着阿斯麥（ASML）發佈其第三季度財報，公司的股價迅速跳水，創下了近26年來的最大單日跌幅。財報發佈後，阿斯麥的股價在美股市場上大幅下挫，一度跌超16%，最終收跌16.26%，創下了自1998年以來的最大單日跌幅。
阿斯麥的業績下滑和股價大跌，不僅讓投資者對公司的未來發展產生了疑慮，也拖累了整個半導體板塊。受這一消息影響，阿斯麥的股價在美股市場上出現了大幅下跌。據報道，其股價在財報發佈後一度暴跌超過16%，創下了近26年來的最大單日跌幅。
這一跌幅不僅讓阿斯麥的市值大幅縮水，也拖累了整個半導體板塊的表現。費城半導體指數在阿斯麥財報發佈後也收跌超過5%，顯示出市場對於半導體行業整體前景的擔憂。
阿斯麥的股價大跌，引發市場的廣泛關注和討論。有分析師指出，阿斯麥的業績下滑和訂單量大幅下降，反映出半導體行業的整體需求放緩，以及市場對未來經濟前景的擔憂。此外，阿斯麥下調明年銷售目標，也進一步加劇了市場的悲觀情緒。
面對業績的下滑和股價的大跌，阿斯麥的首席執行官表示，儘管人工智能領域仍有強勁的發展和上升潛力，但其他市場領域的復甦速度較慢，導致客户變得謹慎。他預計，這種情況將在2025年持續，復甦要比之前預期得要慢。
面對股價的大幅下跌和市場的質疑，阿斯麥方面表示將積極應對市場變化，加強技術研發和市場拓展，努力提升公司的競爭力和盈利能力。同時，公司也表示將加強與客户的溝通和合作，爭取更多的訂單和市場份額。
然而，阿斯麥方面做出了積極回應，但市場的反應仍然非常強烈。投資者對於阿斯麥的未來發展前景持謹慎態度，紛紛選擇拋售其股票以避免更大的損失。這也使得阿斯麥的股價在短時間內持續下跌，進一步加劇了市場的恐慌情緒。
儘管阿斯麥的股價遭遇重創，但市場對其長期發展前景的看法仍然存在分歧。有分析師認為，隨着半導體行業的持續發展和技術進步，阿斯麥作為全球領先的光刻機制造商，仍然具有較大的發展潛力和市場空間。
從默默無聞到全球光刻機巨頭
阿斯麥成立於1984年的荷蘭企業，如今已成為全球高端光刻機的唯一製造商，在EUV光刻機市場中佔有率達到了100%。阿斯麥的崛起之路充滿了挑戰與創新，其發展歷程堪稱半導體行業的傳奇。
阿斯麥的創業團隊和技術團隊主要來自於飛利浦公司，專注於高端光刻機的設計與生產。在成立初期，阿斯麥便致力於光刻技術的研發與創新，推出了PAS2500等一系列具有突破性的光刻機產品，逐步在市場上嶄露頭角。1990年左右，阿斯麥推出的PAS5500系列光刻機打破了美日光刻機巨頭的壟斷地位，標誌着公司在光刻機領域的初步成功。
1995年3月，阿斯麥成功上市，標誌着公司逐步走向成熟，並開始獲得半導體大廠商的青睞。此後，阿斯麥通過兼併收購和持續優化產品線，市場份額快速提升。
2001年，阿斯麥收購了美國的硅谷集團（SVG），進一步鞏固了其在全球光刻機市場的領先地位。同年，阿斯麥推出採用雙工作台的設備，並在2004年推出第一台浸入式光刻機樣機，這些技術的推出確立了阿斯麥相對於佳能、尼康的技術優勢。
進入21世紀後，阿斯麥持續進行技術升級，推出一系列創新產品。2010年，阿斯麥推出全球首台EUV（極紫外光刻）光刻機NXE3100，這是光刻技術的重大突破。2016年，阿斯麥推出首台可量產的EUV光刻機NXE3600B，從2017年開始大量上市，進一步確立了阿斯麥在高端光刻機系統的龍頭地位。
阿斯麥的成功並非偶然，其背後有着多方面的因素支撐。首先，阿斯麥始終將技術創新作為企業發展的核心動力，不斷投入巨資進行研發，保持技術領先。其次，阿斯麥注重與全球頂尖科研機構和企業的合作，共同研發新技術，確保自身在光刻機領域的技術領先地位。此外，阿斯麥還擁有一支技術精湛、協作默契的團隊，以及獨特的企業文化，這些都為公司的快速發展提供了有力支持。
在全球半導體行業，阿斯麥的影響力不容小覷。其設備對中國的半導體制造行業至關重要，儘管存在出口管制和限制，但荷蘭的設備和技術仍然是中國半導體產業鏈中的重要組成部分。阿斯麥的崛起不僅推動了荷蘭半導體產業集羣的發展，也對全球半導體產業產生了深遠的影響。
阿斯麥的發展之路也並非一帆風順。近年來，隨着全球半導體市場的競爭加劇，阿斯麥也面臨着來自各方面的挑戰。但憑藉其在光刻機領域的絕對優勢，阿斯麥依然保持着強勁的發展勢頭。