荷蘭更新許可發放要求，光刻機巨頭回應

9月6日，荷蘭政府發佈了有關浸潤式DUV光刻設備出口的最新許可證要求。隨後，觀察者網從光刻機巨頭ASML獲得一份《關於荷蘭政府更新出口許可證要求的聲明》，該公司稱這項新要求將使出口許可證的發放方式更協調統一。

這一措施規定，從2024年9月7日起，ASML在出口相關先進製造設備時必須申請授權，荷蘭政府將根據具體情況對申請進行評估。措施適用於從荷蘭出口到歐盟以外的目的地。

此前路透社曾報道，美國單方面限制ASML出口。對此，荷蘭議會議員質疑有損荷蘭主權，而ASML也表示難以滿足美國和荷蘭的許可要求。

根據更新後的許可證發放要求以及美國《出口管理條例》第734部分的第4.(a).(3)節的規定，ASML將需要向荷蘭政府而非美國政府申請 TWINSCAN NXT:1970i 和 1980i 型號浸潤式DUV光刻系統的出口許可證。之前，荷蘭政府已經開始對TWINSCAN NXT:2000i 及後續推出的浸潤式光刻系統實施出口許可證要求。ASML EUV光刻系統的銷售也受到出口許可證要求的限制。

由於這是一項流程性變更，ASML預計該公告不會對其2024年的業績預期或2022年11月投資者日上公佈的公司長期前景產生重大影響。 

以下是聲明原文：

荷蘭政府今天發佈了關於浸沒式 DUV 半導體設備出口的最新許可要求。ASML 認為，這一要求將協調頒發出口許可證的方式。 

根據更新後的許可要求，並根據美國出口管理條例 734.4.(a).(3)，ASML需要向荷蘭政府而非美國政府申請出口許可，才能出貨其TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV浸沒式光刻系統。荷蘭出口許可要求已適用於TWINSCAN NXT:2000i及後續DUV浸沒式系統。ASML的EUV系統的銷售也需遵守許可要求。 

荷蘭政府發佈的最新許可要求將於2024年9月7日起生效。 

由於這是一項技術性變更，因此預計此公告不會對我們2024年的財務前景或2022年11月投資者日期間傳達的長期情景產生任何影響。

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