白山頭：國產光刻機進展太慢？重點不是這個

【文/觀察者網專欄作者 白山頭】

最近網上有很多關於中國工信部發布的光刻機技術討論的分析文章，大致認為工信部發布的這款光刻機相當於阿斯麥15至20年前的產品，主要應用於55至65納米的工藝。這與大家所理解的能夠生產8納米或7納米的先進工藝有較大差距。

因此，許多人看完這些技術分析後，覺得我們的進步不夠快。然而，實際上大家看錯了重點。

這款光刻機屬於公認的第四代光刻機，也就是DUV光刻機，僅次於最先進的EUV光刻機。雖然在精度上與更為先進的光刻機有差距，但它屬於同一代，並不存在代差，具備很強的迭代升級空間。

也就是説，這款65納米的光刻機與能夠製造7納米工藝的光刻機之間並沒有代差。所需要做的就是不斷迭代升級，包括鏡頭、光刻膠、光源、套刻精度等各方面。

當然，要達到能夠製造出7納米工藝的水平，需要大量的努力和投入。

不過糾結於光刻機的細節參數其實是本末倒置。我們需要理解的是，為什麼工信部會在這個時候發佈這樣兩款算不上先進的光刻機。

首先，對這兩款光刻機進行推廣，意味着它已經經過了工程驗證和優質客户的優先採購，已經完全滿足了這些客户的需求。光刻機的產量足以供給更多客户，這才具備推廣的意義。如果產量不足，供不應求，那就沒有推廣的必要。這是很淺顯的道理。

此外，還有對阿斯麥及荷蘭政府的施壓。阿斯麥曾放話，不再為中國企業售出的光刻機提供售後服務，並且收緊了光刻機的銷售種類。大家可能不知道，65納米以上的光刻機銷售額佔阿斯麥中國總銷售額的40%，而中國市場又佔據了阿斯麥總銷售額的50%。也就是説，如果這款65納米光刻機實現全部國產替代，阿斯麥將損失20%的銷售額，這對公司來説是一個重大打擊。

值得注意的是，65納米光刻機並非我們目前已應用的最先進的國產光刻機。這裏説的是“已應用的”，而不是“正在研發中的”。相信EUV光刻機的研發早已在進行中。

至於工信部為什麼不推廣最新國產先進光刻機，其實也不難理解。國內目前的需求就足以消化掉國產先進光刻機的產能。也就是説，這款先進光刻機仍然處於供不應求的狀態，當然優先供給自己使用。當一個產品供不應求時，也就沒有必要進行推廣。按照中國人一貫低調的做事風格，沒有必要官宣的時候，也無需官宣。而且通常不會把最先進的技術拿出來。

展望未來，當整個行業都在快速迭代、奮起直追時，如果按照歷史規律判斷需要多少年能趕上歐美，顯然是不切實際的。個人判斷，不出五年，先進的國產DUV光刻機將會大規模應用；而不出十年，包括最先進的EUV光刻機都有可能實現大規模量產。

當國產半導體供應鏈完整形成後，可能會出現國產供應鏈與歐美供應鏈的競爭格局。由於國產供應鏈更短、更緊湊、效率更高，歐美的半導體供應鏈或將逐漸衰退。包括台積電和阿斯麥這些如今在行業內呼風喚雨的公司，也許不久後會逐漸退出歷史舞台。

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