中國或研發出國產深紫外光刻機能生產8納米及以下晶片 | 聯合早報

中國官方本月發佈首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄，包含了套刻等於及少於8納米的氟化氬光刻機，意味着中國可能已研發出可生產8納米及以下晶片的國產深紫外光刻機。

中國工業和信息化部上星期一（9月9日）發佈目錄，在集成電路生產裝備名單中包含了一款氟化氬光刻機，套刻為≦8nm。

綜合IT之家、星島網和中央社報道，氟化氬服務於深紫外光刻機。上述深紫外光刻機可生產8納米及以下晶片。

報道稱，中國若實現國產8納米及以下製程深紫外光刻機，未來絕大多數晶片製造，將不用受制於荷蘭計算機芯片設備供應商阿斯麥（ASML）。

中國首台（套）重大技術裝備是指國內實現重大技術突破、擁有知識產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品，包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等。

延伸閲讀

中國不滿荷蘭擴大光刻機出口管制 將矛頭指向美國 香港《南華早報》報道，ASML幾乎壟斷了極紫外光刻機市場，自2019年以來面對與對華出口該設備有關的限制令。

光刻機可將高度複雜的電路圖案印製到硅片上。中國光刻機市場有99%的份額由ASML，以及日本公司尼康和佳能掌控，但只有ASML能生產有製造小於7納米芯片能力的光刻器。

荷蘭9月6日公佈，將擴大對阿斯麥1970i和1980i深紫外浸沒式光刻設備的出口許可要求，使荷蘭方面的規則與美國去年單方面對這些機器實施的出口限制保持一致。

中國官方之後對於荷蘭擴大對光刻機的管制範圍表示不滿，並呼籲荷蘭不濫用出口管制措施。