我國固體激光驅動EUV的進展可喜可賀，但距離攻克EUV光刻機還有很長的路_風聞

看到觀網首頁對我國固體激光驅動EUV研究的報道，看了下論文原文，進展可喜可賀。但這只是光源實驗平台，距離國際頂尖水平和實用化的光刻機還有很長的路。

激光驅動的EUV光源有兩個很重要的指標：功率和轉換效率。目前商用的EUV光源，用功率幾十千瓦的10.6微米波長CO2激光高頻脈衝轟擊錫液滴，產生幾百瓦的13.5納米EUV光，轉換效率約6%，可以滿足每小時光刻幾百片晶圓的大批量生產要求。CO2激光的優勢在於高功率、高重複頻率（幾十kHz）和窄脈寬（幾十ns），激發EUV光的效率高。這是從上世紀八十年代起的激光、極紫外、等離子體等基礎研究和技術開發所確定的、當下最優的技術路線，其他各種EUV技術路線國際上都有研究，但都還沒能走到成熟應用。不過CO2激光驅動EUV也存在激光系統體積龐大、從電力到激光的能量轉化效率低的不足。

1微米固體激光器體積緊湊、電-光轉換效率高，有望成為下一代EUV驅動激光技術，國際上正在緊鑼密鼓研究，比如美國就在開發1.9微米波長驅動激光，並非中國獨創的技術路線。相比於現有商用光源，固體激光驅動EUV仍然要攻克功率和效率的問題。新聞報道的這篇論文實現了3%的激光到EUV轉換效率，雖然達到固體激光驅動路線的國際靠前水平（距離國際先進水平仍有差距），但只有商用光源的一半，還有很大的優化空間；千瓦級的固體激光器已有成熟產品，但要達到EUV光刻量產的要求，還需進一步提升到幾十千瓦級別。

（不同國家實現的固體激光驅動EUV轉換效率，右上角紅五角星是這篇論文的結果，仍然落後於左上角美日的5%，上方藍色虛線代表商用CO2驅動EUV光的水平——胡楨麟,何梁,王天澤,等.1μm激光激發固體Sn靶等離子體EUV輻射特性實驗研究.中國激光,2025,52(06):79-86.）

依託現有技術基礎，我國建立了1μm固體激光驅動等離子體EUV光源實驗平台，服務於EUV光刻技術的開發，未來則可用於EUV光刻所用的掩模檢測設備。

我們為我國每一項科技進展而歡呼。但希望媒體在報道時，做到實事求是，講清楚我們實際所處的位置、國際上的發展現狀，不要妄自菲薄，也不要盲目拔高。科技競爭是持久戰，讓我們抱着充足的耐心和信心，為我國科技工作者加油打氣。

關於EUV驅動激光的更多內容，我看我發在微信公眾“材聞窗外事”上的科普文章：EUV光刻機的驅動激光器長什麼樣？

在風聞也有發表： EUV光刻機的驅動激光器長什麼樣？ 評論 7 科技