我國大模型數量居全球首位；AI投資聯盟正式成立；清華大學開發出新型EUV光刻膠

【觀網財經丨智能早報 7月28日】

我國大模型數量居全球首位

今年以來我國基礎大模型的迭代速度加快，大模型在電子、原材料、消費品等行業加快落地。“2025世界人工智能大會”上介紹，當前全球已發佈的大模型總數達到3755個，其中，我國企業貢獻了1509個，數量居全球首位。

AI投資聯盟正式成立

“AI投資聯盟”在2025世界人工智能大會期間舉行的2025中國電信人工智能生態論壇上正式成立。AI投資聯盟以聚焦AI領域投資為核心，旨在搭建投資人開放協作平台、整合產業資本、研發應用場景等資源，構建開放協作的產業生態，為中國AI產業高質量發展注入新動能。（上證報）

可靈AI全球用户超4500萬

7月27日，在2025WAIC期間舉辦的“生成式AI應用元年”生態論壇上，可靈AI宣佈目前已在全球擁有超過4500萬創作者，產品自發布以來迭代升級30餘次，累計生成超2億個視頻和4億張圖片。

騰訊混元3D世界模型正式發佈並開源

7月27日，在2025世界人工智能大會騰訊論壇上，騰訊正式發佈混元3D世界模型1.0，並全面開源。除3D世界模型外，騰訊混元還披露了包括端側混合推理語言模型、多模態理解模型、遊戲視覺模型等在內的一系列開源計劃。

商湯科技發佈“悟能”具身智能平台

7月27日，在WAIC 2025大模型論壇上，商湯科技發佈“悟能”具身智能平台。“悟能”具身智能平台以商湯具身世界模型為核心引擎，依託商湯大裝置提供端側和雲側算力支持，能夠為機器人、智能設備提供強大的感知、視覺導航及多模態交互能力。商湯具身世界模型還能夠生成多視角視頻，並確保良好的時間一致性和空間一致性，讓機器能夠理解、生成、編輯真實世界，在空間層面實現世界交互，並構建面向人、物、場的4D真實世界。（36氪）

特斯拉第三代機器人即將進入中國C端市場

特斯拉相關人士消息，目前特斯拉第三代機器人已在美國工廠進行實測，預計2025年面向中國C端市場推出，將進入家庭等消費場景，預計2026年實現量產，計劃5年內年產100萬台。（科創板日報）

特斯拉智能輔助駕駛計劃年內在中國進一步落地

2025世界人工智能大會正在舉行，特斯拉攜帶智能電動車、人形機器人及智能輔助駕駛技術、V4超充樁等最新成果出席這一AI盛會。在現場，特斯拉以視頻形式展示了新近上線的Robotaxi業務。據悉，特斯拉Robotaxi無人駕駛出租車服務基於視覺架構，結合全球數百萬輛車數據訓練的神經網絡，支持跨區域部署，可快速複製到新區域。

特斯拉智能輔助駕駛系統（駕駛員監管版）計劃2025年在中國、歐洲進一步落地，正在等待監管部門審核。特斯拉預計在今年年底前，在美國部分地區，在確保所有安全措施到位的前提下，面向個人用户開放智能輔助駕駛系統（無駕駛員監管版）。未來幾年內，特斯拉將經歷從“前自動駕駛時代”到“後自動駕駛時代”的根本性轉變。（上觀新聞）

上海將推動500輛數據採集網約車落地運行

7月26日，上海市經信委副主任湯文侃表示，2024年，上海汽車產業規模以上產值達7035億元，新能源汽車累計推廣量達到164.5萬輛，穩居全球城市首位。目前，上海已集聚9家整車企業、600餘家零部件企業，匯聚超過15萬名高端人才，產業基礎雄厚、發展動能強勁。為加快建設高級別自動駕駛引領區，上海將推動500輛數據採集網約車落地運行，年內採集數據預計超過1000萬個clips，並建立自動駕駛大模型評測體系，實現端到端智能駕駛模型的量產應用。（人民財訊）

崔東樹：6月中國佔世界汽車份額36%

乘聯分會秘書長崔東樹7月27日發文稱，2025年6月全球汽車銷量806萬輛，同比增長3%，環比增長2%，處於歷年中高位水平。中國汽車市場表現突出，6月世界份額攀升至36%，較去年同期提升4個百分點，創歷史新高。1至6月中國汽車累計銷量1565萬輛，同比增長11%，佔全球總銷量4632萬輛的33.8%。自主品牌成為增長主力，全球汽車市場呈現“中國強、歐美穩、其他弱”的格局，中國車企憑藉出口和國內消費回暖貢獻主要增量。

貓王音響創始人否認被華為收買，此前炮轟雷軍引熱議

近日，貓王音響創始人曾德鈞發視頻否認被華為收買。曾德鈞在視頻中表示，“我們是做技術的，我們有一雙犀利的洞察的眼，誰做得好，誰做得不好，我們知道。我的的確確覺得華為是一家踏踏實實做事，在為整個社會培養人才，為社會輸出能力的一家公司。當然華為在早期成長的時候，似乎也抄襲過別人。當然我也説過，在一個公司的早期階段，肯定免不了有這樣的一些原罪，關鍵在於你走過這個階段之後，你要怎麼去做，當你到了一定規模之後，那你原則上就不能再做了，這就是我的觀點。”

此前，曾德鈞因發視頻稱小米CEO雷軍形象反差大，缺乏尊重而引發熱議。（36氪）

清華大學開發出理想的極紫外（EUV）光刻膠材料

7月26日消息，隨着集成電路工藝向7nm及以下節點不斷推進，13.5nm波長的EUV光刻成為實現先進芯片製造的核心技術。但EUV光源反射損耗大、亮度低等特點，對光刻膠在吸收效率、反應機制和缺陷控制等方面提出了更高挑戰。清華大學宣佈，該校化學系許華平教授團隊在極紫外（EUV）光刻材料上取得重要進展——開發出一種基於聚碲氧烷（Polytelluoxane，PTeO）的新型光刻膠，為先進半導體制造中的關鍵材料提供了新的設計策略。該研究提供了一種融合高吸收元素Te、主鏈斷裂機制與材料均一性的光刻膠設計路徑，有望推動下一代EUV光刻材料的發展，助力先進半導體工藝技術革新。（it之家）

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