英特爾表示新的ASML機器正在生產中，結果積極 | 路透社

工人在美國俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾設施前看到一台“高NA EUV”光刻系統，這張圖片是路透社於2024年4月19日獲得的資料圖。英特爾公司/路透社提供加利福尼亞州聖荷西，2月24日（路透社）-（這篇2月24日的報道已更正為説英特爾正在使用18A製造技術來測試高NA工具，而不是使用高NA機器來開發18A製造技術，在第9段中）

英特爾(INTC.O)週一表示，來自ASML控股的前兩台尖端光刻機(ASML.AS)“正在生產”中，早期數據表明它們比早期型號更可靠。在加利福尼亞州聖荷西的一次會議上，英特爾高級首席工程師史蒂夫·卡森表示，英特爾在一個季度內使用ASML的高數值孔徑（NA）光刻機生產了30,000片硅晶圓，這些大圓盤可以產生數千個計算芯片。

去年，英特爾成為全球首家交付這些機器的芯片製造商，預計將生產比早期ASML機器更小、更快的計算芯片。這一舉動是英特爾戰略的轉變，因為它在採用上一代極紫外（EUV）光刻機方面落後於競爭對手。

英特爾花了七年時間才將這些早期機器投入全面生產，這導致它失去了對台灣半導體制造公司的領先地位(2330.TW)英特爾在生產初期階段對之前的EUV模型的可靠性感到掙扎。然而，卡森表示，ASML的新高NA機器在初步測試中比早期型號的可靠性高出約兩倍。

卡森説：“我們以一致的速度生產晶圓，這對平台來説是一個巨大的好處。”

新ASML機器使用光束在芯片上打印特徵，也可以用更少的曝光完成與早期機器相同的工作，從而節省時間和金錢。

卡森表示，英特爾工廠的早期結果顯示，高NA機器可以用一次曝光和“個位數”的處理步驟完成早期機器需要三次曝光和約40個處理步驟的工作。

英特爾正在使用其18A製造技術，該技術計劃在今年晚些時候與新一代PC芯片一起進行大規模生產，以測試高NA工具。

它表示計劃將高NA機器投入全生產，配合其下一代製造技術14A，但尚未給出該技術的大規模生產日期。

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