本地首創 工業級200毫米碳化硅晶圓開放式研發產線 | 聯合早報

新加坡成立世界首條工業級200毫米碳化硅晶圓開放式研發生產線，推動國內外企業研發高性能半導體材料。

新科研總裁馬健德星期三（5月21日）在2025年東南亞半導體展（SEMICON Southeast Asia 2025）上，宣佈這項消息。　　

這條200毫米“碳化硅”（Silicon Carbide，簡稱SiC）晶圓開放式研發生產線，由新科研旗下的微電子研究院打造，旨在促進研究人員和企業之間在碳化硅領域的創新合作，加強我國在寬禁帶（wide bandgap）半導體研究方面的能力，以滿足未來需求。

碳化硅推動寬禁帶半導體研發 能量“門檻”高應用更廣

禁帶是一種材料中電流流動所需能量的“門檻”。相對於硅等傳統半導體材料，寬禁帶半導體的“門檻”更高，更能在高温和高電壓下工作，也更適用於數據中心、汽車、航空航天等高端應用領域。碳化硅就是一種典型的寬禁帶半導體材料；“200毫米”指的是所加工的碳化硅晶圓的直徑，這種尺寸的晶圓，應用領域更為廣泛。

新生產線重點解決碳化硅器件開發中面臨的高成本、技術獲取有限、碎片化研發等挑戰；也提供機會，讓關鍵設備原始設備製造商（OEM）和材料供應商緊密合作，開發新品。馬健德説：“合作企業可以在新的生產線，同ASM、Nissin等現有合作伙伴一道，進行各項研發工作。”

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[陳詩龍：半導體業處全球貿易暴風眼 新加坡加強與夥伴合作

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](https://www.bdggg.com/2024/zaobao/news_2024_12_29_729572) 本地碳化硅科技企業Waferlead首席執行官蘇尼爾（Sunil Wickramanayaka）在接受《聯合早報》採訪時説，公司與新科研已合作了四年，如今成立開放式研發生產線，能為公司提供晶片質量檢查等關鍵設備，不但節約成本，也讓公司對未來的發展更有信心。

他説：“倘若我們公司要自行研發檢測晶片質量問題的設備，少説也要投入100萬美元吧，如今我們可以考慮把省下的投資用到其他需要的地方。”

“晶圓廠內的實驗室”項目 二期工程啓動

新科研當日還宣佈，啓動“晶圓廠內的實驗室”（Lab-in-Fab）項目二期工程，以及扶助本地起步公司和中小企業發展先進電子設計自動化產業的EDA Garage計劃。

“晶圓廠內的實驗室”是新科研微電子研究院、意法半導體（STMicroelectronics）和日本製造工具供應商ULVAC三方合作項目的延續。三個機構企業早在2020年起，就共同建立並運營一條專注於200毫米壓電式微機電系統（Piezo MEMS）的研發線，項目如今進入二期階段。

壓電微機電系統廣泛應用於傳感器、執行器和能量採集設備，以實現精密檢測和控制。項目第二階段的合作伙伴還包括新科研材料研究與工程研究院以及新加坡國立大學。