美官員：繼續限制ASML與中國大陸合作，是總統國安顧問首要任務
【文/觀察者網 呂棟】
極紫外光刻機（EUV）是芯片工藝向7nm以下發展必不可少的工具，平均每台售價超過12億元人民幣。
中芯國際需要藉助EUV製造更先進的芯片，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）也希望賣出更多的設備來攤薄研發成本。但由於美國從中作梗，雙方一直無法完成交易。
“出口管制將加快中國自主研發，15年時間裏他們將做出所有的東西”、“中國完全自主掌控供應鏈之後，歐洲供應商將徹底失去市場”，儘管阿斯麥CEO温彼得接連表達焦慮，但美國依舊選擇視而不見。
據美媒《華爾街日報》7月17日報道，一位美國官員透露，拜登政府在確認EUV光刻機在科技產業中的戰略價值後，選擇延續特朗普時期的政策。白宮官員已與荷蘭政府進行接觸，並以國家安全為由要求荷蘭方面限制向中國大陸出售EUV。
報道披露，拜登正式就職還不到一個月，其國家安全顧問傑克·沙利文已就“在先進技術方面的密切合作”與荷蘭方面進行交談。美國官員透露，繼續限制阿斯麥與中國大陸的合作，是沙利文的首要任務。
《華爾街日報》報道截圖
目前，全世界只有阿斯麥一家企業可以生產EUV光刻機。在全球範圍內，無論是美國的英特爾、韓國的三星，還是中國台灣的台積電，都可以自由購買重達180噸的EUV去製造高端電子設備的芯片。
但在美國壓力下，荷蘭政府一直沒有批准向中國大陸出口EUV。
美國對荷蘭政府的施壓早在特朗普任期內便已開始。據時任美國總統副國家安全顧問的查爾斯·庫珀曼（Charles Kupperman）回憶，他2019年曾邀請荷蘭外交官前往白宮，並向後者施壓，稱“忠實的盟友”不會向中國大陸出售EUV這類設備。庫珀曼還警告荷蘭方面，如果沒有美國的零部件，阿斯麥的設備就無法運轉，而白宮有權限制這些零部件向荷蘭出口。
報道援引知情人士稱，限制向荷蘭出口技術目前並不在白宮的討論範圍內。但美國正試圖召集西方國家的聯盟，就出口管制問題進行合作。此舉可能對EUV光刻機以外的領域產生影響，進一步攪亂世界各地本已承壓的半導體供應鏈。
阿斯麥NXE3400極紫外光刻機內部結構 圖片來源：公司官網
阿斯麥財報披露，過去的2020年，該公司在中國大陸的營收和出貨量均創下歷史新高。2021年一季度，阿斯麥共向中國大陸出貨光刻系統約11台，佔比15%在全球排名第三（前兩名是韓國和中國台灣），但這其中並沒有EUV。
在阿斯麥CEO温彼得看來，美國的出口管制措施可能會適得其反。
“當涉及有針對性的、具體的國家安全問題時，出口管制是一種有效的工具，”温彼得在一份聲明中表示，“然而，作為更廣泛的國家半導體領導戰略的一部分，政府需要考慮如果這些工具過度使用，會如何通過減少研發投入來減緩中期創新。”他還補充稱，在中短期內，過度使用出口管制可能會減少全球芯片製造產能，並加劇供應鏈問題。
一直未批准向中國大陸出口EUV，也讓中荷關係出現裂痕。《華爾街日報》援引所謂知情人士稱，中方官員時常會詢問荷蘭政府，“為什麼不授予阿斯麥將設備運往中國大陸的許可”。
去年1月，中國駐荷蘭大使館發言人曾指出，中方堅決反對任何第三方對荷蘭政府施加政治壓力，迫使荷方違背自身利益作出決定。這必將導致對各方都不利的後果，也必將對國際貿易秩序帶來負面影響。
中國駐荷蘭大使館網站截圖
儘管光刻機是半導體設備中的一個難點，但中國大陸一直沒有放棄自主研發。
2020年6月，方正證券在一份研報中提到：“在國家02專項光刻機項目二期中，設定的時間為2020年12月驗收193nmArF浸沒式DUV光刻機，其製程工藝為28納米，對標產品為ASML現階段最強DUV光刻機：TWINSCANNXT:2000i。以NXT:2000i為例，各子系統拆分如下：上海微電子負責光刻機設計和總體集成，北京科益虹源提供光源系統，北京國望光學提供物鏡系統，國科精密提供曝光光學系統，華卓精科提供雙工作台，浙江啓爾機電提供浸沒系統。”
今年6月8日，英國科技媒體“VERDICT”在一篇報道中稱，上海微電子計劃在今年底推出一台國產28nm DUV光刻機，並在上海的一條專有生產線上為物聯網設備製造48nm和28nm芯片。該報道還提到，上海微電子管理層近期表示，提高48nm和28nm的良率仍然是一個挑戰，但該公司現在擁有基本的自主光刻技術能力，無需美國IP來製造芯片。
VERDICT評論稱，現在評估中國企業在光刻機領域改變市場規則還為時過早，但是上海微電子已經在一個極其困難的技術領域取得突破。
不過，VERDICT並未透露具體信息來源。
市場調研機構CINNO Research分析師向觀察者網表示，目前瞭解到的信息是，光刻機研發難點中對進度影響最大的部分是光源和物鏡，分別來自北京的科益虹源和國望光學。其中又以物鏡為最難，與德、日還有多年技術經驗積累差距，短時間內趕上相當不易。此外，為提高子系統和零部件自主化程度，反制美方“卡脖子”，整個系統還需要更多時間來完善。
VERDICT報道截圖
7月14日，上海市政府發佈《上海市先進製造業發展“十四五”規劃》。其中提到，“十四五”時期將加強裝備材料創新發展，突破光刻設備、刻蝕設備、薄膜設備、離子注入設備、濕法設備、檢測設備等集成電路前道核心工藝設備。
也許是看到中國在突破半導體設備方面的決心，阿斯麥CEO温彼得今年4月曾向美國喊話，“如果你採取出口管制措施將中國市場拒之門外，這將迫使他們爭取技術主權（tech sovereignty），就其真正的技術主權而言……在15年的時間裏，他們自己將能夠做出所有的這些東西，而且他們的市場（針對歐洲供應商的市場）將徹底消失。”
而《華爾街日報》認為，中國追上阿斯麥的光刻機技術至少需要10年。
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